[发明专利]分析系统和方法

说明书

一种对在包括多个测定位点的阵列或微阵列的相应测定位点处执行的测定进行分析的计算机实现的方法，该方法包括：接收阵列或微阵列的测定位点的至少一个图像；针对测定位点中的每个测定位点，对至少一个图像进行处理以确定代表该测定位点处的反应的程度的至少一个度量；针对测定位点中的每个测定位点，确定用于该测定位点的一个或多个参数，其中，用于阵列或微阵列的测定位点中的至少一个测定位点的一个或多个参数不同于用于阵列或微阵列的测定位点中的至少一个其他测定位点的一个或多个参数；以及针对测定位点中的每个测定位点，根据用于该测定位点的至少一个度量和用于该测定位点的一个或多个参数来确定该测定位点处的反应的大小。还公开了一种被相应配置的计算机化的分析系统。

技术领域

本公开涉及用于对反应进行分析的分析系统以及方法，例如用于对测定进行分析的分析系统以及方法。

背景技术

分析系统可用于使对化学测定的分析自动化。这种测定通常在被配置为容纳反应物和试验样品的打印区域的常规阵列中执行。这种测定通常对试验样品中分析物的存在或水平进行试验。通常以不透明度、颜色、尺寸或其他可检测的变化的程度上的变化的形式给出的响应与分析物的存在或水平有关。分析系统被提供有传感器，通常是数码相机，用于识别阵列中的每个打印中的响应。以这种方式，例如，可以查看数码相机图像，并且可以对响应(例如，颜色或不透明度上的变化程度)加以识别，以便确定任何给定的打印区域中分析物的存在或水平。

通常，在每个打印区域中执行相同类型的测定，但可能会希望在阵列的不同打印区域中执行不同类型的测定。

可以执行对在数码相机图像中示出的响应的手动查看，这允许应用一定程度的专业知识和人工判断，但往往速度慢、劳动密集且容易出现人为错误。响应的自动化确定可以更快且具有高生产量，但有时可能会与错误相关联，特别是如果存在不可预见或无法解释的影响或者如果响应是边缘的或临界的情况下(通常称为边缘情况)。

本公开的至少一些示例寻求改进对在包括多个打印区域的阵列或微阵列上执行的测定的自动化分析，特别是在不同的打印区域中执行不同测定的情况下。

发明内容

在独立权利要求中限定了本发明的各个方面。在从属权利要求中限定了一些优选特征。

根据本公开的第一示例是一种对在包括多个位点的阵列的相应位点处执行的多个反应进行分析的计算机实现的方法，该方法包括：

接收阵列的多个位点的至少一个图像；

针对多个位点中的每个位点，对至少一个图像进行处理以确定代表该位点处的反应的程度或大小的至少一个图像度量；

针对多个位点中的每个位点，确定用于该位点的一个或多个参数，其中，用于位点中的至少一个位点的参数不同于用于位点中的至少一个其他位点的参数；

针对多个位点中的每个位点，根据用于该位点的至少一个图像度量和用于该位点的一个或多个参数来确定反应的大小。

阵列可以是或包括或者被包括在微阵列中，例如，多路复用微阵列或杂交阵列。

反应可以是或包括测定。阵列的位点可以是或包括阵列的测定位点、阱(wells)、打印区域或反应位点。反应可以包括化学和/或生物反应。测定可以包括位点处的一种或多种试剂。测定可以包括将样品添加到试剂中。样品中分析物的存在可以导致与试剂的反应。反应可能会在位点处产生斑点，斑点因由反应引起的可测量的变化而产生，并指示该可测量的变化。打印材料的至少一个特性可以导致产生斑点的反应，该斑点由不透明度、强度、颜色和/或尺寸等中的一个或多个的变化来表征，这可以指示反应的程度或大小。用于位点的一个或多个标准和/或参数可以是、包括或表示，斑点的或代表斑点的图像部分的标准和/或参数。反应的大小可以包括或指示斑点等级。对反应大小的确定可以是、被包括在或者可以包括对斑点等级的分级或确定。反应的大小或斑点等级可以是定性的，例如是否已反应，或者是定量的，例如反应的大小或程度的值。用于位点的至少一个度量可以是或包括斑点的度量。