[发明专利]热稳定的多层阻隔膜结构

权利要求书

1.一种耐久阻隔膜，其包括：

聚合物基底层，

无机涂覆层，

位于该聚合物基底层与该无机涂覆层之间的聚合物缓冲层，该聚合物缓冲层与该无机涂覆层直接接触，和

收缩起始温度，

其中

根据ASTM D2732，该聚合物基底层在该收缩起始温度下在纵向或横向中的至少一个方向上包括在0.5％与50％之间的自由收缩，

该无机涂覆层包括在0.005μm与0.1μm之间的厚度，

该聚合物缓冲层包括在0.5μm与12μm之间的厚度，

该聚合物缓冲层的厚度与该无机涂覆层的厚度的比率包括在20与500之间，

如由根据具有附录X.4的ASTM E2546-15所收集的测量值所计算的，该聚合物缓冲层在该收缩起始温度下包括在0.1与100MPa之间的杨氏模量。

2.根据权利要求1所述的耐久阻隔膜，其中，该聚合物缓冲层包括在1与5μm之间的厚度。

3.根据权利要求1或2所述的耐久阻隔膜，其中，该无机涂覆层包含金属层或氧化物涂覆层，且该无机涂覆层的厚度包括在0.005μm与0.06μm之间。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的耐久阻隔膜，其中，该聚合物缓冲层的厚度与该无机涂覆层的厚度的比率包括在30与120之间。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的耐久阻隔膜，其中，该聚合物基底层包含单轴取向聚丙烯膜、双轴取向聚丙烯膜、单轴取向聚乙烯膜、双轴取向聚乙烯膜、单轴取向聚酯膜或双轴取向聚酯膜，并且该聚合物基底层包括在6μm与100μm之间的厚度。

6.根据权利要求1至4中任一项所述的耐久阻隔膜，其中，该聚合物基底层包含取向聚烯烃膜。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的耐久阻隔膜，其中，根据ASTM D2732，该聚合物基底层在该收缩起始温度下包括在1％与6％之间的自由收缩。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的耐久阻隔膜，其中，该聚合物缓冲层包含乙烯醇共聚物、基于聚丙烯的聚合物、基于聚氨酯的聚合物或聚乳酸。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的耐久阻隔膜，其进一步包括与该无机涂覆层直接接触的第二聚合物缓冲层。

10.根据权利要求1至9中任一项所述的耐久阻隔膜，其进一步包括一个或多个额外的层。

11.根据权利要求1至10中任一项所述的耐久阻隔膜，其中：

该聚合物基底层包含具有在10与50μm之间的厚度的双轴取向聚丙烯，

该无机涂覆层包含真空沉积的铝、AlOx或SiOx，且该无机涂覆层的厚度包括在0.01与0.1μm之间，并且

该聚合物缓冲层包含聚氨酯，且该聚合物缓冲层的厚度包括在1与2.5μm之间。

12.根据权利要求1至10中任一项所述的耐久阻隔膜，其中：

该聚合物基底层包含单轴取向聚乙烯膜，该聚合物缓冲层包含乙烯醇共聚物，并且该无机涂覆层包含真空沉积的铝、AlOx或SiOx。