[发明专利]具有高纯度输送气体的吸附型储运容器和相关方法

权利要求书

1.一种含有试剂气体和吸附剂的吸附型储存系统，所述系统包含包括内部、在所述内部的吸附剂和吸附于所述吸附剂上的试剂气体的储存容器，所述储存系统能够从所述容器分配试剂气体，其中所分配试剂气体含有小于150百万分率(按体积计，

ppmv)的总量的选自CO、CO₂、N₂、CH₄和H₂O和其组合的杂质。

2.根据权利要求1所述的储存系统，所述系统能够从所述容器分配所述试剂气体，其中所述所分配试剂气体含有以下中的一或多者：小于25体积百万分率的CO、小于25体积百万分率的CO₂、小于25体积百万分率的N₂、小于25体积百万分率的CH₄或小于25体积百万分率的H₂O。

3.根据权利要求1所述的储存系统，所述系统能够从所述容器分配所述试剂气体，其中所述所分配试剂气体含有以下中的两者或更多者：小于10体积百万分率的CO、小于10体积百万分率的CO₂、小于10体积百万分率的N₂、小于10体积百万分率的CH₄或小于10体积百万分率的H₂O。

4.根据权利要求1所述的储存系统，所述系统能够从所述容器分配所述试剂气体，其中所述所分配试剂气体含有：小于25百万分率的CO、小于25百万分率的CO₂、小于25百万分率的N₂、小于25百万分率的CH₄和小于25百万分率的H₂O。

5.根据权利要求1所述的储存系统，其中所述吸附剂为基于碳的吸附剂、金属有机骨架或沸石。

6.根据权利要求1所述的储存系统，其中所述吸附剂呈颗粒、微粒、珠粒、球粒或成形单片形式。

7.根据权利要求1所述的储存系统，其中所述容器的内部压力低于760托。

8.根据权利要求1所述的储存系统，其中所述试剂气体为氢化物或卤化物。

9.根据权利要求8所述的储存系统，其中：

所述氢化物选自胂、硅烷、锗烷、甲烷和膦，以及

所述卤化物选自BF₃、SiF₄、PF₃、PF₅、GeF₄和NF₃。

10.一种用于将试剂气体储存于含有吸附剂的容器中的方法，所述方法包含：

提供吸附剂；

将所述吸附剂置于容器内部；

将所述容器内部的所述吸附剂暴露于高温和减压下以去除残余水分和挥发性杂质；

在将所述容器内部的所述吸附剂暴露于高温和减压下后，将试剂气体添加至所述容器内部，所述试剂气体吸附于所述吸附剂上，

其中所述储存系统能够从所述容器分配所述试剂气体，其中所述所分配试剂气体含有小于150百万分率的总量的选自CO、CO₂、N₂、CH₄和H₂O和其组合的杂质。

11.根据权利要求10所述的方法，其包含：

将所述试剂气体储存于所述容器内，

从所述容器分配所述试剂气体，其中所述所分配试剂气体含有小于50体积百万分率的总量的选自CO、CO₂、N₂、CH₄和H₂O和其组合的杂质。