[发明专利]用于优化至少一个质谱装置的参数设置的方法在审
申请号: | 202180083294.7 | 申请日: | 2021-12-10 |
公开(公告)号: | CN116601739A | 公开(公告)日: | 2023-08-15 |
发明(设计)人: | B·蒂曼;D·因特尔曼 | 申请(专利权)人: | 豪夫迈·罗氏有限公司 |
主分类号: | H01J49/00 | 分类号: | H01J49/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 钟茂建;陈晓 |
地址: | 瑞士*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 优化 至少 一个 装置 参数设置 方法 | ||
1.一种用于优化以单位分辨率操作的至少一个质谱装置(110)的至少一个参数设置的方法,其中所述方法包括以下步骤:
a)确定用于用所述质谱装置(110)检测感兴趣的分析物的至少一个分析物检测窗口,其中所述分析物检测窗口由所述分析物的中心质荷比值以及预定义宽度定义,其中所述分析物的所述中心质荷比值被设置为具有多于一个小数位的所述感兴趣的分析物的理论质荷比值和/或通过高分辨率质谱测量确定的具有多于一个小数位的所述感兴趣的分析物的质荷比值;
b)确定用于用所述质谱装置(110)检测内标物质的至少一个内标检测窗口,其中所述内标检测窗口由所述内标物质的中心质荷比值以及所述预定义宽度定义,其中所述内标物质的所述中心质荷比值被设置为相对于所述感兴趣的分析物计算且具有多于一个小数位的所述内标物质的质荷比值和/或通过高分辨率质谱测量确定的具有多于一个小数位的所述内标物质的质荷比值。
2.根据前述权利要求所述的方法,其中所述感兴趣的分析物的所述理论质荷比值具有两个小数位和/或通过高分辨率质谱测量确定的所述感兴趣的分析物的所述质荷比值具有两个小数位,其中相对于所述感兴趣的分析物计算的所述内标物质的所述质荷比值和/或通过高分辨率质谱测量确定的所述内标物质的所述质荷比值具有两个小数位。
3.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中所述感兴趣的分析物的所述理论质荷比值具有至少三个小数位和/或通过高分辨率质谱测量确定的所述感兴趣的分析物的所述质荷比值具有至少三个小数位,其中相对于所述感兴趣的分析物计算的所述内标物质的所述质荷比值和/或通过高分辨率质谱测量确定的所述内标物质的所述质荷比值具有至少三个小数位。
4.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中所述内标物质是与所述感兴趣的分析物结构类似的化合物。
5.根据前述权利要求所述的方法,其中所述内标物质是所述分析物的同位素标记形式。
6.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中所述质谱装置(110)被配置用于多反应监测。
7.根据前述权利要求所述的方法,其中所述质谱装置(110)包括三重四极杆质谱装置,所述三重四极杆质谱装置包括三个四极杆。
8.根据前述权利要求所述的方法,其中所述方法包括确定用于所述三重四极杆质谱装置的第一四极杆Q1和/或第三四极杆Q3中的每个的分析物检测窗口和内标检测窗口。
9.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中所述方法包括优化所述参数设置的至少一个其他参数,其中用于所述内标物质的检测的其他参数与使用分析物样品确定的用于所述分析物的检测的其他参数相协调。
10.根据前述权利要求所述的方法,其中所述其他参数是选自由以下各项组成的组的至少一个参数:离子源气体;喷雾气体;探头位置;离子喷雾电压;干燥气体;去簇电位;幕气压力或流量;入口电位;聚焦透镜;离子预滤器;Q1m/z值和分辨率;离子能量;出口透镜;碰撞能量;碰撞气体;碰撞池出口电位;Q3m/z值和分辨率;检测器设置/电压。
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