[发明专利]具有接近传感器的研磨/抛光系统和方法

权利要求书

1.一种研磨机/抛光机系统，包括：

样本固持器，所述样本固持器被配置成固定样本；

台板；

致动器，所述致动器被配置成移动所述样本固持器和所述台板中的至少一者；

传感器，所述传感器被配置成检测所述传感器的视野内的物体；以及

控制器，所述控制器被配置成控制所述致动器的移动，并且在所述致动器移动时响应于所述传感器检测到物体而停止所述致动器。

2.如权利要求1所述的研磨机/抛光机系统，其中，所述控制器被配置成：

响应于操作的启动，识别来自所述传感器的背景信号，所述操作的启动涉及通过所述致动器造成的移动；以及

基于将来自所述传感器的监测信号与所述背景信号进行比较来检测物体。

3.如权利要求2所述的研磨机/抛光机系统，其中，所述控制器被配置成当所述监测信号与所述背景信号之间的差异满足阈值时检测到所述物体。

4.如权利要求1所述的研磨机/抛光机系统，其中，所述致动器包括电动机和驱动致动器，所述控制器被进一步配置成(i)根据所选择的研磨/抛光参数控制所述电动机来使所述样本固持器和所述台板中的至少一者旋转，并且(ii)根据所选择的施加的负载来控制所述驱动致动器将所述样本或所述台板压入所述样本和所述台板中的另一者中。

5.如权利要求4所述的研磨机/抛光机系统，进一步包括用户界面，所述控制器被配置成响应于检测到所述物体而经由所述用户界面输出通知。

6.如权利要求1所述的研磨机/抛光机系统，其中，所述传感器包括超声波传感器、回射接近传感器、光学传感器或光幕传感器中的至少一者。

7.如权利要求1所述的研磨机/抛光机系统，进一步包括含所述传感器的多个传感器，所述多个传感器被配置成监测接近所述台板的对应的多个子体积。

8.如权利要求1所述的研磨机/抛光机系统，其中，所述控制器被配置成禁用所述致动器，直到经由所述传感器检测到所述物体的移除。

9.一种控制研磨机/抛光机系统的方法，所述方法包括：

经由控制器控制致动器以移动研磨机/抛光机系统的样本固持器或所述研磨机/抛光机系统的台板中的至少一者；以及

在所述致动器移动时响应于经由传感器检测到所述传感器的视野内的物体，控制所述致动器停止。

10.如权利要求9所述的方法，进一步包括：

响应于操作的启动，识别来自所述传感器的背景信号，所述操作的启动涉及通过所述致动器造成的移动；以及

基于将来自所述传感器的监测信号与所述背景信号进行比较来检测物体。

11.如权利要求10所述的方法，其中，当所述监测信号与所述背景信号之间的差异满足阈值时，检测到所述物体。

12.如权利要求9所述的方法，其中，控制所述致动器包括：(i)根据所选择的研磨/抛光参数控制所述致动器的电动机来使所述样本固持器和所述台板中的至少一者旋转，并且(ii)根据所选择的施加的负载控制所述致动器的驱动致动器来将所述样本或所述台板压入所述样本和所述台板中的另一者中。

13.如权利要求12所述的方法，进一步包括响应于检测到所述物体而经由用户界面输出通知。

14.如权利要求9所述的方法，其中，经由所述传感器检测所述物体包括：经由超声波传感器、回射接近传感器、光学传感器或光幕传感器中的至少一者检测所述物体。

15.如权利要求9所述的方法，其中，经由所述传感器检测所述物体包括：经由多个传感器中的至少一个传感器检测所述物体，所述多个传感器被配置成监测接近所述台板的对应的多个子体积。

16.如权利要求9所述的方法，进一步包括禁用所述致动器，直到经由所述传感器检测到所述物体的移除。