[发明专利]聚合性化合物、活性能量射线固化性树脂组合物、固化物、抗蚀剂用组合物和抗蚀膜

说明书

提供：对微细空间的浸润性优异、且光学特性、耐蚀刻性、固化性、溶剂溶解性等也优异，从而可以用于经超微细化的布线图案形成的聚合性化合物。具体而言为下述通式(1)所示的聚合性化合物。

技术领域

本发明涉及聚合性化合物、活性能量射线固化性树脂组合物、固化物、抗蚀剂用组合物和抗蚀膜。

背景技术

近年来，随着LSI的高集成化和高速度化，要求其图案加工越来越微细化，在使用了ArF准分子激光(193nm)的光刻法中，通过工艺材料的光学特性的利用、工艺设备的改良而超越了源自光源波长的本质的分辨率限度。

光致抗蚀剂的领域中，开发出了多种用于形成更微细的布线图案的方法，其中之一有多层抗蚀法。多层抗蚀法中，在基板上形成1层或多层的被称为抗蚀剂下层膜、防反射膜等的层后，在其上形成基于通常的光刻法的抗蚀图案，然后，通过干式蚀刻将布线图案加工转印至基板。多层抗蚀法的技术中重要的构件之一为前述抗蚀剂下层膜，对于该下层膜要求干式耐蚀刻性高、光反射性低等。另外，抗蚀剂下层膜以溶剂稀释的状态被制膜，因此，抗蚀剂下层膜用的树脂材料需要可溶于通用有机溶剂。

另外，近年来的经超微细化的布线图案形成大多使用重复被称为双重图案化、多重图案化的多次曝光和蚀刻的工序，对于该下层膜，在将前工序中制作的微细的图案填孔了的基础上，还承担形成平滑的下一工序制作面的重要的作用。因此，基底材料中使用的抗蚀剂下层膜材料还要求对微细空间的高的浸润性。

另外，作为以往的抗蚀剂下层膜用的含酚羟基的化合物，已知有含蒽骨架的化合物(专利文献1)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2010-285403号公报

发明内容

发明要解决的问题

前述专利文献1中记载的含蒽骨架的化合物在固化涂膜中的光反射率低，作为防反射膜的特性优异，但由于分子尺寸和宽的芳香族电子云所产生的π-π相互作用而对微细空间的浸润性低。

本发明的课题在于，提供：对微细空间的浸润性优异、且光学特性、耐蚀刻性、固化性、溶剂溶解性等也优异从而可以用于经超微细化的布线图案形成的聚合性化合物。

另外，本发明的课题在于，提供：可以用于经超微细化的布线图案形成的活性能量射线固化性树脂组合物。

另外，本发明的课题在于，提供：可以形成经超微细化的布线图案的抗蚀剂用组合物。

用于解决问题的方案

本发明为下述通式(1)所示的聚合性化合物。

[上述通式(1)中，X表示具有芳香环结构和聚合性不饱和基团的结构部位。另外，上述通式(1)中的3个X任选分别为相同结构或不同结构。]

另外，本发明为一种聚合性化合物，其将三羟基苯与环氧卤丙烷的反应产物(A)和含聚合性不饱和基团的芳香族化合物(B)作为反应原料。

另外，本发明为一种聚合性化合物，其将三羟基苯与环氧卤丙烷的反应产物(A)、含聚合性不饱和基团的非芳香族化合物(C)、和连接前述反应产物(A)与前述含聚合性不饱和基团的非芳香族化合物(C)的芳香族化合物(D)作为反应原料。

另外，本发明为一种活性能量射线固化性树脂组合物，其含有：前述聚合性化合物、光聚合引发剂、和有机溶剂。

另外，本发明为一种抗蚀剂用组合物，其含有前述聚合性化合物。

发明的效果