[其他]线圈器件、电路元件模块以及电子设备有效

专利信息
申请号: 202190000078.7 申请日: 2021-03-02
公开(公告)号: CN216490421U 公开(公告)日: 2022-05-10
发明(设计)人: 三川贤太郎 申请(专利权)人: 株式会社村田制作所
主分类号: H03H7/38 分类号: H03H7/38;H03H7/09;H03H7/075
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 韩聪
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 线圈 器件 电路 元件 模块 以及 电子设备
【说明书】:

线圈器件、电路元件模块以及电子设备,其中线圈器件具有:第1端子对(P1);第2端子对(P2);第1线圈(La),串联连接在第1端子对(P1)与第2端子对(P2)之间,并具有绕卷绕轴卷绕的第1线圈导体;以及第2线圈(Lb),并联连接在第1端子对(P1)与第2端子对(P2)之间,具有绕卷绕轴卷绕的第2线圈导体,并与第1线圈(La)进行磁场耦合。第1线圈导体的面积大于第2线圈导体的面积。

技术领域

本实用新型涉及具有多个线圈的线圈器件、具有多个线圈并且具有其它电路元件的电路元件模块、以及具备它们的电子设备。

背景技术

专利文献1示出了具有相互进行磁耦合的两个线圈的滤波器电路。例如,示出了通过设置与信号线串联地连接的电感器、分路地连接(shunt connected)在信号线与接地之间的电感器、以及其它电路元件而构成的低通滤波器、高通滤波器。

在先技术文献

专利文献

专利文献1:国际公开第2019/107081号

实用新型内容

实用新型要解决的课题

在专利文献1记载的滤波器电路中,存在如下情况,即,从相互进行磁场耦合的线圈中的一方的线圈产生的磁通量由于另一方的线圈的存在而被干扰,该一方的线圈的电感非本意地下降。因此,变得也需要将一方的线圈的卷绕数、线圈长度向增加的方向进行调整。此外,存在如下情况,即,会在另一方的线圈产生涡电流,其成为涡电流损耗而产生损耗。其结果是,线圈的Q值下降,插入损耗增大,或者衰减量变小,存在得不到所希望的滤波器特性的情况。

由上述的电感的下降、Q值的下降造成的特性变化、偏移并不限于滤波器,在具有相互进行磁场耦合的多个线圈的线圈器件、电路元件模块共同地产生。

因此,本实用新型的目的在于,提供一种尽管具有相互进行磁场耦合的多个线圈但是抑制了电感的下降、Q值的下降的具有给定的特性的线圈器件、电路元件模块以及具备它们的电子设备。

用于解决课题的技术方案

作为本公开的一个例子的线圈器件具备:第1端子对;第2端子对;第1线圈,串联连接在所述第1端子对与所述第2端子对之间,并具有绕卷绕轴卷绕的第1线圈导体;以及第2线圈,并联连接在所述第1端子对与所述第2端子对之间,具有绕所述卷绕轴卷绕的第2线圈导体,并与所述第1线圈进行磁场耦合。而且,从所述卷绕轴的方向观察,所述第1 线圈导体的面积大于所述第2线圈导体的面积。

此外,作为本公开的一个例子的线圈器件具备:第1端子对;第2 端子对;第1线圈,并联连接在所述第1端子对与所述第2端子对之间,并具有绕卷绕轴卷绕的第1线圈导体;以及第2线圈,串联连接在所述第 1端子对与所述第2端子对之间,具有绕所述卷绕轴卷绕的第2线圈导体,并与所述第1线圈进行磁场耦合。而且,从所述卷绕轴的方向观察,所述第1线圈的线圈开口大于所述第2线圈的线圈开口。

此外,作为本公开的一个例子的线圈器件具备:第1端子对;第2 端子对;第1线圈,连接在所述第1端子对之间,并具有绕卷绕轴卷绕的第1线圈导体;以及第2线圈,连接在所述第2端子对之间,具有绕所述卷绕轴卷绕的第2线圈导体,并与所述第1线圈进行磁场耦合。而且,所述第1线圈的电感小于所述第2线圈的电感,从所述卷绕轴的方向观察,所述第1线圈导体的面积大于所述第2线圈导体的面积。

此外,作为本公开的一个例子的电路元件模块具备:所述线圈器件;以及有源电路元件,与所述第1线圈或所述第2线圈连接,所述线圈器件以及所述有源电路元件在单个封装件内一体构成。

此外,作为本公开的一个例子的电子设备具备:所述线圈器件;以及其它电路,与该线圈器件连接。

此外,作为本公开的一个例子的电子设备具备:所述电路元件模块;以及其它电路,与该电路元件模块连接。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社村田制作所,未经株式会社村田制作所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202190000078.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top