[发明专利]用于光学系统调焦调平的检测装置及方法在审

专利信息
申请号: 202210000822.4 申请日: 2022-01-04
公开(公告)号: CN114383822A 公开(公告)日: 2022-04-22
发明(设计)人: 苏佳妮;卢增雄;齐月静;李璟;高斌;陈进新 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: G01M11/02 分类号: G01M11/02;G02B27/62
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 李世阳
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 用于 光学系统 调焦 检测 装置 方法
【说明书】:

本公开提供一种用于光学系统调焦调平的检测装置,该检测装置沿光路方向依次包括:光源、第一PBS棱镜、1/4波片、测试板、1/2波片、分光棱镜和探测器;其中,光源发射的S偏振光被第一PBS棱镜反射至1/4波片,1/4波片将S偏振光转变为圆偏振光,圆偏振光透过待测光学系统,被测试板反射,再次透过待测光学系统返回进入1/4波片,1/4波片将圆偏振光转变为P偏振光;P偏振光透过第一PBS棱镜进入1/2波片,被1/2波片调整偏振方向后进入分光棱镜;分光棱镜的上半部和下半部分别将调整偏振方向后的P偏振光进行多次反射后于同一出光面输出;探测器检测上半部和下半部输出光的位置,并根据该位置对待测光学系统进行调平。

技术领域

本公开涉及光学系统的集成及装调技术领域,具体涉及一种用于光学系统调焦调平的检测装置及方法。

背景技术

光学系统集成过程中,倾斜和不在最佳焦面是常见的问题,因为单纯依靠机械结构定位,必然会存在倾斜、不在最佳焦面等定位误差,而最佳焦面位置通常会放置标记板、探测器等系统重要部件。这些定位误差会导致探测器上接收到的光斑图像信号对比度下降,直接影响系统分辨率,最终降低测量精度,因此,倾斜和最佳焦面的调整是必须解决的问题。

通常,光学系统的倾斜调整是集成后通过测量分析探测器的光斑信号,根据光斑信号来调节光学系统与框架基准面的倾斜,然后再通过其他的测量系统定位光学系统的焦面,焦面测量系统通常需要针对不同的光学系统进行开发定制。因此,这些方法往往需要借助其他多项辅助设备完成,通用性差,成本较高,测量及调整时间较长,具有一定的局限性和不便性。

发明内容

(一)要解决的技术问题

针对上述问题,本公开提供了用于光学系统调焦调平的检测装置及方法,用于至少部分解决传统装置结构复杂、通用性差、成本较高等技术问题。

(二)技术方案

本公开提供了一种用于光学系统调焦调平的检测装置,检测装置沿光路方向依次包括:光源、第一PBS棱镜、1/4波片、测试板、1/2波片、分光棱镜和探测器;其中,光源发射的S偏振光被第一PBS棱镜反射至1/4波片,1/4波片将S偏振光转变为圆偏振光,圆偏振光透过待测光学系统,被测试板反射,再次透过待测光学系统返回进入1/4波片,1/4波片将圆偏振光转变为P偏振光;P偏振光透过第一PBS棱镜进入1/2波片,被1/2波片调整偏振方向后进入分光棱镜;分光棱镜的上半部和下半部分别将调整偏振方向后的P偏振光进行多次反射后于同一出光面输出;探测器检测上半部和下半部输出光的位置,并根据该位置对待测光学系统进行调平。

进一步地,分光棱镜包括胶合连接的上半部和下半部,上半部由直角棱镜、屋脊棱镜组成,下半部由直角棱镜、屋脊棱镜组成,两个直角棱镜之间为分光面。

进一步地,待测光学系统通过第一调节机构固定于基板上;检测装置设置于待测光学系统之上,且两者的主光轴重合。

进一步地,检测装置还包括:调平工装,用于承载测试板,并经过调节使之平行位于待测光学系统的理论焦面处,调平步骤结束后,记录测试板的位置,进行待测光学系统的调焦。

进一步地,调平工装为三角形吊装结构,其三个角上分别设置有柱状结构,每个柱状结构包括基准面、第二调节机构;其中,基准面与基板的下表面相接触。

进一步地,调平工装中间设置有凹槽,用于放置测试板并使之与基板平行。

进一步地,检测装置还包括:三坐标测量机,用于测量每个柱状结构的位置,通过调节第二调节机构使测试板与基板平行。

进一步地,检测装置还包括:三个电容传感器,用于记录测试板的焦面位置;运动台,用于根据记录的焦面位置使得标记板复原到该焦面位置,完成待测光学系统的调焦。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院微电子研究所,未经中国科学院微电子研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202210000822.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top