[发明专利]用于校正色移的部分反射器、圆形偏振片及显示器在审
申请号: | 202210003478.4 | 申请日: | 2018-10-02 |
公开(公告)号: | CN114280717A | 公开(公告)日: | 2022-04-05 |
发明(设计)人: | 亚当·D·哈格;朴善镛;蒂莫西·J·内维特;布丽安娜·N·惠勒;乔迪·L·彼得森 | 申请(专利权)人: | 3M创新有限公司 |
主分类号: | G02B5/30 | 分类号: | G02B5/30;H01L51/52 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 张芸;龙涛峰 |
地址: | 美国明*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 校正 部分 反射 圆形 偏振 显示器 | ||
本发明公开了一种包括光学叠堆的波长和偏振相关的部分反射器、圆形偏振片及显示器。光学叠堆包括多个光学重复单元,每个光学重复单元包括第一聚合物层和第二聚合物层,沿第一轴线的第一聚合物层和第二聚合物层之间的折射率差值为Δny,沿正交的第二轴线的第一聚合物层和第二聚合物层之间的折射率差值为Δnx,|Δnx|为至少0.1并且|Δny|不超过0.04,其中对于沿第二轴线的折射率,光学重复单元在光学叠堆的第一侧附近具有最小光学厚度T1且在光学叠堆的相反第二侧附近具有最大光学厚度T2,(T2‑T1)/(T2+T1)在0.05至0.2的范围内,T2为至少350nm并且不超过1250nm。
本申请是2020年4月1日(国际申请日:2018年10月2日)提交、发明名称为“用于校正色移的部分反射器”、申请号为201880064271.X(国际申请号:PCT/IB2018/057624)的发明专利申请的分案申请。
技术领域
本申请涉及用于校正色移的部分反射器、圆形偏振片及显示器。
背景技术
包括多个聚合物层的反射膜是已知的。此类膜的示例包括反射镜和偏振片,偏振片包括交替聚合物层,其中相邻层具有不同折射率。
显示器可呈现出随视角的色移。
发明内容
在本说明书的一些方面中,提供了一种包括光学叠堆的波长和偏振相关的部分反射器。所述光学叠堆包括多个光学重复单元,其中每个光学重复单元包括第一聚合物层和第二聚合物层。对于波长λ1λ2λ3,所述部分反射器对于在介于λ1和λ3之间的波长下的沿第一轴线偏振的垂直入射光具有至少85%的透射率。所述部分反射器具有第一反射谱带(reflection band),所述第一反射谱带对于沿正交的第二轴线偏振的垂直入射光具有在λ2和λ3处的谱带边缘。所述部分反射器具有所述光学重复单元的f比率、沿所述第二轴线的所述第一聚合物层和所述第二聚合物层之间的折射率差值、以及所述光学叠堆中的光学重复单元的总数,使得所述第一反射谱带对于沿所述第二轴线偏振的垂直入射光具有介于15%和97%之间的平均反射率。所述光学重复单元具有一定范围的光学厚度,使得(λ3-λ2)/(λ3+λ2)在0.05至0.2的范围内,所述第一反射谱带是主反射谱带,并且λ3为至少700nm并且不超过2500nm。
在本说明书的一些方面中,提供了一种包括光学叠堆的波长和偏振相关的部分反射器。所述光学叠堆包括多个光学重复单元,每个光学重复单元包括第一聚合物层和第二聚合物层,沿第一轴线的所述第一聚合物层和所述第二聚合物层之间的折射率差值为Δny,沿正交的第二轴线的所述第一聚合物层和所述第二聚合物层之间的折射率差值为Δnx,|Δnx|为至少0.1并且|Δny|不超过0.04。对于沿所述第二轴线的折射率,所述光学重复单元在所述光学叠堆的第一侧附近具有最小光学厚度T1且在所述光学叠堆的相反第二侧附近具有最大光学厚度T2。(T2-T1)/(T2+T1)在0.05至0.2的范围内,其中T2为至少350nm并且不超过1250nm。
在本说明书的一些方面中,提供了一种圆形偏振片,包括线性吸收型偏振片、延迟片和设置在所述线性吸收型偏振片和所述延迟片之间的反射型偏振片。所述反射型偏振片具有主反射谱带,所述主反射谱带具有在至少600nm的波长处的短波长谱带边缘。
在本说明书的一些方面中,提供了一种圆形偏振片,包括线性吸收型偏振片、延迟片和设置在所述线性吸收型偏振片和所述延迟片之间的反射型偏振片。所述反射型偏振片包括光学叠堆,所述光学叠堆包括多个光学重复单元,其中每个光学重复单元包括第一聚合物层和第二聚合物层。沿第一轴线的所述第一聚合物层和所述第二聚合物层之间的折射率差值为Δny,沿正交的第二轴线的所述第一聚合物层和所述第二聚合物层之间的折射率差值为Δnx,其中|Δnx|为至少0.1并且|Δny|不超过0.04。对于沿所述第二轴线的折射率,所述光学重复单元在所述光学叠堆的第一侧附近具有最小光学厚度T1且在所述光学叠堆的相反第二侧附近具有最大光学厚度T2,其中T2为至少300nm。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于3M创新有限公司,未经3M创新有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202210003478.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。