[发明专利]一种图案化金属层表面抛光方法有效
| 申请号： | 202210008223.7 | 申请日： | 2022-01-06 |
| 公开（公告）号： | CN114273992B | 公开（公告）日： | 2022-11-01 |
| 发明（设计）人： | 李晓宇;张志红;胡艺缤;高春燕;王梦佳;毛亮海 | 申请（专利权）人： | 西南应用磁学研究所（中国电子科技集团公司第九研究所） |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00;B81C1/00 |
| 代理公司： | 绵阳市博图知识产权代理事务所(普通合伙) 51235 | 代理人： | 黎仲 |
| 地址： | 621000 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 图案 金属 表面 抛光 方法 | ||
1.一种图案化金属层表面抛光方法，其特征在于，所述方法的步骤包括：
（1）先将光敏型聚酰亚胺旋涂在硅片上图案化金属层表面，填充并覆盖整个Au图案化金属层；
（2）升温固化聚酰亚胺层；
（3）在聚酰亚胺层上表面涂覆一层光刻胶层；
（4）对光刻胶层进行刻蚀抛光，将光刻胶层全部刻蚀，得到表面平整的聚酰亚胺层；
（5）对聚酰亚胺层继续进行刻蚀，使漏出部分厚度较高的图案化金属层图案；
（6）对表面凸出的金属层图案进行磨抛，至金属层图案与聚酰亚胺上表面平齐；
（7）去掉金属层图案间隙填充的聚酰亚胺，清洗，干燥，即得。
2.根据权利要求1所述的一种图案化金属层表面抛光方法，其特征在于：步骤（1）中，聚酰亚胺涂层厚度高出图案化金属层最上层0.5-1.0μm。
3.根据权利要求1所述的一种图案化金属层表面抛光方法，其特征在于：步骤（2）中，升温固化时采用阶梯升温的方法。
4.根据权利要求3所述的一种图案化金属层表面抛光方法，其特征在于：所述阶梯升温的方法为：80℃,1h-120℃,1h-180℃,1h-235℃,3h-自然降温。
5.根据权利要求1所述的一种图案化金属层表面抛光方法，其特征在于：步骤（4）中，采用反应离子刻蚀法，刻蚀气体为O2和SF6。
6.根据权利要求5所述的一种图案化金属层表面抛光方法，其特征在于：刻蚀后确保刻蚀聚酰亚胺和刻蚀光刻胶的选择比为1:1。
7.根据权利要求1所述的一种图案化金属层表面抛光方法，其特征在于：步骤（6）中，磨抛时采用化学机械抛光设备或者金相抛光设备。
8.根据权利要求1所述的一种图案化金属层表面抛光方法，其特征在于：步骤（7）中，采用聚酰亚胺腐蚀液进行聚酰亚胺去除。
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