[发明专利]刷洗装置、晶圆、三维存储器及存储系统在审

专利信息
申请号: 202210017789.6 申请日: 2022-01-07
公开(公告)号: CN114361079A 公开(公告)日: 2022-04-15
发明(设计)人: 王光毅;邬良 申请(专利权)人: 长江存储科技有限责任公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;H01L27/11551;H01L27/11578;B08B1/02;B08B3/02
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 谭玲玲
地址: 430074 湖北省武*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 刷洗 装置 晶圆 三维 存储器 存储系统
【权利要求书】:

1.一种刷洗装置,其特征在于,所述刷洗装置用于刷洗晶圆(10),所述刷洗装置包括:

晶圆驱动部(20),所述晶圆驱动部(20)与所述晶圆(10)驱动连接以驱动所述晶圆(10)转动;

清洗刷组件(30),所述清洗刷组件(30)包括多组清洗刷,所述多组清洗刷沿预定方向间隔布置,各组所述清洗刷均包括分别位于所述晶圆(10)的相对两侧且绕自身轴线可转动地设置的两个清洗刷,以清洗所述晶圆(10)的相应的表面;

其中,所述预定方向平行于所述晶圆(10)的表面。

2.根据权利要求1所述的刷洗装置,其特征在于,

各组所述清洗刷中的两个所述清洗刷之间呈V型夹角设置,所述的V型夹角的开口端的宽度为0.3mm至0.6mm;和/或

所述清洗刷的长度大于或等于所述晶圆(10)的直径。

3.根据权利要求1所述的刷洗装置,其特征在于,所述多组清洗刷包括第一组清洗刷(301)和第二组清洗刷(302),所述第一组清洗刷(301)位于所述第二组清洗刷(302)远离所述刷洗装置的支撑基面的一侧。

4.根据权利要求3所述的刷洗装置,其特征在于,所述第一组清洗刷(301)中的各个所述清洗刷的转动轴线在所述晶圆(10)的表面上的投影与所述晶圆(10)的表面的圆心之间的距离为L1,所述第二组清洗刷(302)中的各个所述清洗刷的转动轴线在所述晶圆(10)的表面上的投影与所述晶圆(10)的表面的圆心之间的距离为L2;其中,

L1小于L2;和/或

L1的取值为0mm;和/或

L2的取值范围为65mm至85mm。

5.根据权利要求1所述的刷洗装置,其特征在于,各个所述清洗刷均包括刷杆(31),所述刷杆(31)为圆柱形杆体,所述刷杆(31)的外周面上设置有用于与所述晶圆(10)的表面接触以对其进行刷洗的多个刷洗部(32)。

6.根据权利要求1所述的刷洗装置,其特征在于,所述刷洗装置包括供液装置(40),以用于向所述晶圆(10)的表面喷射清洗液。

7.根据权利要求6所述的刷洗装置,其特征在于,

所述供液装置(40)包括位于所述多组清洗刷的上方的第一供液部;和/或

所述供液装置(40)包括穿设在所述清洗刷的刷杆(31)中的第二供液部,所述刷杆(31)上设置有用于供清洗液流出的喷射孔。

8.根据权利要求7所述的刷洗装置,其特征在于,

所述供液装置(40)包括供液管路(41)和设置在所述供液管路(41)上的喷头(42),所述供液管路(41)用于向所述喷头(42)供应清洗液,所述喷头(42)用于向所述晶圆(10)的表面喷射清洗液。

9.根据权利要求1所述的刷洗装置,其特征在于,所述晶圆驱动部(20)包括多个可转动的驱动轮(21),多个所述驱动轮(21)环绕所述晶圆(10)的周向间隔布置,且各个所述驱动轮(21)均与所述晶圆(10)的外表面接触,以通过多个所述驱动轮(21)的转动来驱动所述晶圆(10)转动。

10.一种晶圆,其特征在于,所述晶圆采用权利要求1至9中任一项所述的刷洗装置来进行加工。

11.一种三维存储器,其特征在于,包括由权利要求10所述的晶圆制作而成的半导体器件。

12.一种存储系统,其特征在于,包括存储控制器和权利要求11所述的三维存储器,所述三维存储器被配置为存储数据,所述存储控制器耦合到所述三维存储器并被配置为控制所述三维存储器。

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