[发明专利]利用遮阳木培育小叶青冈天然林优质大径材的方法有效

专利信息
申请号: 202210025091.9 申请日: 2022-01-11
公开(公告)号: CN114402939B 公开(公告)日: 2023-02-03
发明(设计)人: 杨庆松;郑泽梅;刘何铭;周正康;尹慧敏;曾雨霖;王希华;王良衍 申请(专利权)人: 华东师范大学
主分类号: A01G23/00 分类号: A01G23/00;A01G17/00
代理公司: 上海蓝迪专利商标事务所(普通合伙) 31215 代理人: 徐筱梅;张翔
地址: 200241 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 利用 遮阳 培育 小叶 青冈 天然林 优质 大径材 方法
【权利要求书】:

1.一种利用遮阳木培育小叶青冈天然林优质大径材的方法,其特征在于,包括以下步骤:

(1)林分选择:选择亚热带地区海拔300-700m山地,土层深厚、较肥沃,砾石裸岩分布小于15%的地块;建群树种为小叶青冈、木荷,郁闭度至少0.7,优势木明显识别,林木个体径级已明显分化,每公顷胸径大于20cm立木数量200-250株的林分;

(2)选择目标木:在林分中选出实生、健壮、树干通直、圆满、生命力强、无病虫害危害的个体为目标木,作为未来大径材的重点培育对象;

(3)选择遮阳木:遮阳木是指对目标木树冠以下有遮阳作用的个体;遮阳木树高通常在8m以上,树冠较大,高度为目标木树高度1/2-2/3;遮阳木位于目标木受光面,距离为目标木树高的1/3-1/2,种类为群落演替发育后期物种的木荷、米槠和港柯;

(4)择伐抚育:在12月,对林分进行择伐,伐除小叶青冈目标木上层和侧方的干扰木,伐除风倒、枯立、衰弱、弯曲木和病虫害木,并清理林内灌、竹、藤及草,将清理的树木和灌竹残体按水平条带放置林间;按步骤(3)选择并保留遮阳木,对目标木进行修枝,保留树冠占树高1/3-1/2,修除与主干竞争的侧稍,不留枝茬,保持剪口齐平;每公顷目标木密度为90-105株;

(5)补植:在2月下旬至3月上旬,在林窗空地补植乡土阔叶树种幼树,就地移植,或者补植2-3年生健康容器苗,垦穴规格:长×宽×深为50cm×50cm×35cm;补植后,每年5月和9月对补植苗0.5m范围内新生杂草进行抚育清除,连续4年,以利幼树的生长,补植后次年对补植幼苗施复合肥,氮∶磷∶钾=16%∶16%∶16%,每株100g,连续施肥3年;

(6)目标木经营:对目标木进行单木蓄积培育,抚育伐除干扰木、风倒、枯立和衰弱木,修枝后要求活枝下高至少7m,对目标木根部覆土,在林地内就近取表土,覆土于目标木根部,覆土厚度约2cm,间隔期为5年,连续2次;使目标木树冠充分暴露,树干尽量被邻近下木树冠遮阳庇护;

(7)林分后期管理:从目标木经营后持续性的综合管理,控制林分密度,注意保护更新幼树,5年1次对林分资源进行监测,监测林分蓄积量、大径木生长量、结实和更新状况,防止暴雨和森林灾害发生。

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