[发明专利]修整器、研磨垫的修整方法及玻璃基板的制造方法

说明书

本发明提供修整器、研磨垫的修整方法及玻璃基板的制造方法。金刚石修整器将研磨垫表面磨削除去，因此存在研磨垫的使用寿命变短这样的问题。并且，使用刷子修整器来从研磨垫的微细孔中除去堵塞物质的方法虽然研磨垫的表面难以被磨削，但是存在无法可靠地除去微细孔中积存的堵塞物质这样的问题。本发明的目的在于提供一种能够抑制破坏研磨垫的研磨面或使研磨垫的研磨面变粗糙并且能够除去处于研磨垫的研磨面上的堵塞物质，且能够均匀地修整研磨垫的研磨面的修整器以及修整方法。本发明的修整器的特征在于具有：圆柱状的主体部，具有曲面；以及修整部，形成于所述主体部的曲面，所述修整部距离所述主体部的曲面的高度为1.0mm以上且30mm以下。

技术领域

本发明涉及用于研磨垫的修整的修整器、使用所述修整器的修整方法以及使用所述修整器的玻璃基板的制造方法。

背景技术

例如，用于LCD(Liquid Crystal Display：液晶显示器)、OLED(Organic Light-Emitting Diode：有机发光二极管)等平板显示器(FPD：Flat Panel Display)的玻璃基板通过研磨装置来研磨玻璃基板的表面。例如在专利文献1中记载了使用研磨垫和浆料来研磨玻璃基板的表面的方法。

在研磨垫上设有许多对分散于浆料中的磨粒进行保持的微细孔或槽等(以下也称为“微细孔”)，利用通过该微细孔而保持在研磨垫的研磨面上的磨粒来进行研磨。然而，反复进行玻璃基板的研磨时，在研磨垫的研磨面的微细孔中发生堵塞，因此玻璃基板的研磨精度和研磨效率下降，会有例如玻璃基板的表面变得不均匀，或者研磨很费时间的情况。

因此，在研磨了规定张数的玻璃基板之后，使电沉积了金刚石的微粒子的修整器等与研磨垫的研磨面抵接，削去研磨垫的研磨面中的用于玻璃基板的研磨的范围，从而消除堵塞。在专利文献2中公开了使金刚石的微粒子电沉积并形成磨粒层的金刚石修整器、由刷子构成的刷子修整器。

在先技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2004-122351号公报

专利文献2：日本特开平11-333698号公报

发明内容

发明所要解决的课题

但是，专利文献2中记载的那样的金刚石修整器由于将研磨垫的表面磨削除去，因此存在研磨垫的使用寿命变短这样的问题。尤其是，在研磨垫的研磨面上设有聚氨酯的发泡层(以下也称为“NAP层”)的绒面革型的研磨垫，由于NAP层容易被金刚石修整器磨削从而研磨垫的寿命容易变短。

并且，使用刷子修整器来从研磨垫的微细孔中除去堵塞物质的方法虽然研磨垫的表面难以被磨削，但是存在无法可靠地除去微细孔中积存的堵塞物质这样的问题。并且，在研磨垫为绒面革型的研磨垫的情况下，研磨面的NAP层被破坏，在研磨垫的研磨面上产生凹凸，存在例如无法充分地降低研磨的玻璃基板的表面粗糙度和波纹度，或者研磨的玻璃基板表面的粗糙度变得不均匀的问题。

并且，发明者们发现了在使用专利文献2中公开的那种圆形平板状的修整器的情况下，在研磨面上堵塞物质的除去精度容易产生不均。这可认为是由于研磨垫与修整器的接触时间因部位而不同。

例如，在使用圆形平板状的修整器并使研磨垫与圆形平板状的修整器相对地旋转的情况下，在研磨垫的中央部和外周部处，与修整器的接触时间不同。因此，例如在和研磨垫的中央部与修整器的接触时间相比研磨垫的外周部与修整器的接触时间较短的情况下，有可能产生虽然研磨垫的中央部的堵塞物质被除去但是研磨垫的外周部的堵塞物质没有被除去等问题。

本发明的目的在于提供一种能够抑制破坏研磨垫的研磨面或产生凹凸而变粗糙并且能够除去处于研磨垫的研磨面上的堵塞物质，且能够均匀地修整研磨垫的研磨面的修整器以及修整方法。

用于解决课题的技术方案