[发明专利]保持部件、上部电极组件以及等离子体处理装置

说明书

本发明提供一种保持部件、上部电极组件以及等离子体处理装置，其能够将电极板悬挂保持于保持板。该保持部件在将电极板保持于保持板时使用，包括：第一部件，其具有轴部和卡定部，该轴部具有内螺纹部，该卡定部与上述轴部相比扩大形成；以及第二部件，其具有在一个方向延伸的长孔部，上述轴部穿过该长孔部上述第一部件构成为能够相对于上述第二部件进行滑动。

技术领域

本发明涉及保持部件、上部电极组件以及等离子体处理装置。

背景技术

公知有使用通过将由单晶硅构成的电极板和由其他材质构成的保持板组合而形成的上部电极组件的基板处理装置。

在专利文献1中,在圆板状的等离子体蚀刻用电极中,公开了具有由单晶硅构成的电极中央部、以及由其他材质构成的电极外周部而成的等离子体蚀刻用电极。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本国特开平11-162940号公报

发明内容

本发明要解决的问题

外周部被固定的单晶硅电极在蚀刻工艺中成为高温,产生起因于温度的不均匀的变形,从而在与安装有电极板的保持板之间产生间隙。由于该间隙,产生进一步的温度不均匀、反应复制物的堆积等的不良情况。另外,由于等离子体处理装置的RF信号(RF电力)的高输出化、处理时间的增加,自等离子体进入上部电极组件的热量增大,从而热应力、热膨胀量增大。

在一个方面,本发明提供一种能够将电极板悬挂保持于保持板的保持部件、上部电极组件以及等离子体处理装置。

用于解决问题的手段

为了解决上述课题,根据一个方式,提供一种保持部件,其在使电极板保持于保持板时使用,该保持部件包括:第一部件,其具有轴部和卡定部,该轴部具有内螺纹部,该卡定部与上述轴部相比扩大形成；以及第二部件,其具有在一个方向延伸的长孔部,上述轴部穿过该长孔部,上述第一部件构成为能够相对于上述第二部件进行滑动。

发明的效果

根据一个方面,能够提供一种将电极板悬挂保持于保持板的保持部件、上部电极组件以及等离子体处理装置。

附图说明

图1是示出一个实施方式的等离子体处理系统的构成例的图。

图2是等离子体处理腔室的顶部的部分扩大剖视图的一个例子。

图3是电极板的俯视图的一个例子。

图4是电极板的A-A剖视图的一个例子。

图5是上部电极组件中的A-A剖视图的一个例子。

图6是衬套的第一部件的立体图的一个例子。

图7是衬套的第二部件的立体图的一个例子。

图8是用于固定部件的图的一个例子。

图9是用于说明在电极板的凹部中安装衬套以及圆环部件的安装方法的剖视图的一个例子。

具体实施方式

以下,参照附图对用于实施本发明的方式进行说明。在各附图中,有时对相同构成部分付与相同附图标记,并且省略重复的说明。

以下,对等离子体处理系统的构成例进行说明。图1是示出一个实施方式的等离子体处理系统的构成例的图。