[发明专利]坏块表继承方法及其存储装置有效

专利信息
申请号: 202210034811.8 申请日: 2022-01-13
公开(公告)号: CN114385084B 公开(公告)日: 2023-09-19
发明(设计)人: 付应辉;张云路;李皓 申请(专利权)人: 合肥沛睿微电子股份有限公司
主分类号: G06F3/06 分类号: G06F3/06
代理公司: 北京国昊天诚知识产权代理有限公司 11315 代理人: 李有财
地址: 230012 安徽省合肥市新站区文*** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 坏块表 继承 方法 及其 存储 装置
【权利要求书】:

1.一种坏块表继承方法,应用于存储装置的控制器,其特征在于,包括以下步骤:

对所述存储装置的存储模块进行扫描检测,以生成原始坏块表,并存储在所述存储模块的第一存储位置,其中,所述原始坏块表记录所述存储模块中每一个平面的坏块信息;以及

对所述存储模块进行低级格式化操作时,读取所述原始坏块表,并基于所述存储装置所操作的多平面模式执行自适应继承程序,以生成系统坏块表,并存储在所述存储模块的第二存储位置,其中,所述系统坏块表记录所述多平面模式对应的坏块信息;

其中,所述自适应继承程序包括:以N平面为单位进行解析,并基于解析结果将同时进行N平面操作的多个块所对应的比特位设置为不同的取值来记录N平面模式的坏块信息,其中N大于1。

2.根据权利要求1所述的坏块表继承方法,其特征在于,还包括:

擦除所述第一存储位置所存储的所述原始坏块表之后,对所述存储模块重新进行扫描检测,生成新的所述原始坏块表;以及

将生成的新的所述原始坏块表写入至所述第一存储位置。

3.根据权利要求1所述的坏块表继承方法,其特征在于,对所述存储装置的存储模块进行扫描检测,以生成原始坏块表的步骤包括:

在缓冲存储器申请一段存储空间并初始化,其中,所述存储空间的一位比特位对应所述存储模块的一个块;以及

扫描检测所述存储模块的每一个块,以将每一个块所对应的比特位设置为不同的取值来表示坏块或正常块,并生成所述原始坏块表。

4.根据权利要求3所述的坏块表继承方法,其特征在于,所述将每一个块所对应的比特位设置为不同的取值来表示坏块或正常块的步骤包括:

将被标记为所述坏块或者检测到为所述坏块的块所对应的比特位设置为1;以及

将被标示为所述正常块或者检测到为所述正常块的块所对应的比特位设置为0。

5.根据权利要求1所述的坏块表继承方法,其特征在于,所述对所述存储模块进行低级格式化操作时,读取所述原始坏块表,并基于所述存储装置所操作的多平面模式执行自适应继承程序,以生成系统坏块表,并存储在所述存储模块的第二存储位置的步骤包括:

对所述存储模块进行所述低级格式化操作时,在缓冲存储器申请两段存储空间并初始化;

读取所述原始坏块表,并存储在所述两段存储空间其中之一;

以所述存储装置所操作的平面数为单位,解析存储在所述两段存储空间其中之一的所述原始坏块表,以自适应生成所述系统坏块表,并存储于所述两段存储空间其中之另一;以及

将存储于所述两段存储空间其中之另一的所述系统坏块表存储在所述存储模块的所述第二存储位置。

6.一种存储装置,其特征在于,包括:

存储模块,包括第一存储位置与第二存储位置;以及

主控芯片,包括:

微处理器,连接所述存储模块,用于对所述存储模块进行扫描检测,以生成原始坏块表,并存储在所述第一存储位置;以及对所述存储模块进行低级格式化操作时,读取所述原始坏块表,并基于所述存储装置所操作的多平面模式执行自适应继承程序,以生成系统坏块表,并存储在所述第二存储位置;其中,所述原始坏块表记录所述存储模块中每一个平面的坏块信息,所述系统坏块表记录所述多平面模式对应的坏块信息,所述自适应继承程序包括:以N平面为单位进行解析,并基于解析结果将同时进行N平面操作的多个块所对应的比特位设置为不同的取值来记录N平面模式的坏块信息,其中N大于1。

7.根据权利要求6所述的存储装置,其特征在于,所述微处理器还用于擦除所述第一存储位置所存储的所述原始坏块表之后,对所述存储模块重新进行扫描检测,生成新的所述原始坏块表;将生成的新的所述原始坏块表写入至所述第一存储位置。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于合肥沛睿微电子股份有限公司,未经合肥沛睿微电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202210034811.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top