[发明专利]光固化抗菌二氧化硅涂层的制备方法及其应用

权利要求书

1.一种光固化抗菌二氧化硅涂层的制备方法，其特征在于：包括如下步骤：

S1.抗菌二氧化硅的制备：将二氧化硅加入硅烷偶联剂混合液中，经超声振动、抽滤、洗涤后，再加入到8wt％-12wt％的聚六亚甲基胍盐酸盐的水溶液中反应，得到抗菌二氧化硅；所述二氧化硅为介孔二氧化硅；所述介孔二氧化硅与所述硅烷偶联剂混合液的比例为(3-5)g/L；所述硅烷偶联剂混合液包括乙酸水溶液和硅烷偶联剂；

S2.光敏抗菌二氧化硅的制备：将步骤S1得到的所述抗菌二氧化硅加入到乙醇分散液中，并向其中加入含巯基的硅烷偶联剂，加热反应后，得到光敏抗菌二氧化硅；所述抗菌二氧化硅和含巯基的硅烷偶联剂的质量比为(5-15):(1-5)；

S3.光固化抗菌二氧化硅涂层的制备：将步骤S2得到的所述光敏抗菌二氧化硅与脂肪族聚氨酯丙烯酸酯、二缩三丙二醇二丙烯酯及光起始剂进行高速搅拌混合，经光照得到光固化抗菌二氧化硅涂层。

2.根据权利要求1所述的光固化抗菌二氧化硅涂层的制备方法，其特征在于：所述含巯基的硅烷偶联剂为3-巯丙基三甲氧基硅烷。

3.根据权利要求2所述的光固化抗菌二氧化硅涂层的制备方法，其特征在于：步骤S2中所述加热反应的温度为70-80℃，反应时间为8-12h。

4.根据权利要求3所述的光固化抗菌二氧化硅涂层的制备方法，其特征在于：步骤S2中所述乙醇分散液为无水乙醇与水的混合液，所述无水乙醇含量为40wt％-60wt％。

5.根据权利要求1所述的光固化抗菌二氧化硅涂层的制备方法，其特征在于：所述硅烷偶联剂为KBM-403、KBM-503中的一种。

6.根据权利要求1所述的光固化抗菌二氧化硅涂层的制备方法，其特征在于：步骤S3中所述光敏抗菌二氧化硅、脂肪族聚氨酯丙烯酸酯、二缩三丙二醇二丙烯酯及光起始剂的质量比为(1％-3％):(30％-50％):(30％-50％):(10％-30％)。

7.一种权利要求1至6任一项制备的光固化抗菌二氧化硅涂层的应用，其特征在于：所述光固化抗菌二氧化硅涂层用于抵抗大肠杆菌和金黄色葡萄球菌的感染。