[发明专利]一种抑制MAX相中A元素晶须生长的方法有效
申请号: | 202210047770.6 | 申请日: | 2022-01-17 |
公开(公告)号: | CN114478013B | 公开(公告)日: | 2022-10-28 |
发明(设计)人: | 张培根;田志华;唐静雯;孙正明;刘健 | 申请(专利权)人: | 东南大学 |
主分类号: | C04B35/56 | 分类号: | C04B35/56;C04B35/622;C04B41/00 |
代理公司: | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人: | 柏尚春 |
地址: | 211189 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 抑制 max 相中 元素 须生 方法 | ||
1.一种抑制MAX相中A位元素晶须生长的方法,其特征在于,利用A’元素对MAX相中的A位进行固溶处理,得到MAX相固溶体;所述MAX相固溶体经过机械损伤处理后A’元素在MAX相表面形成氧化膜;
所述A’元素为Al、Si、Ir或Ge中的一种;所述A位 元素为Sn、In、Ga、Zn、Cd、Tl或Pb中的一种。
2.根据权利要求1所述的抑制MAX相中A位元素晶须生长的方法,其特征在于,所述A’元素在MAX相A位原子层中的浓度为5.0~99.9 at%。
3.根据权利要求1所述的抑制MAX相中A位元素晶须生长的方法,其特征在于,所述MAX相为Ti2SnC、Zr2SnC、Nb2SnC、Lu2SnC、Hf2SnC、Hf2SnN、Ti3SnC2、Ti2InC、Ti2InN、Zr2InC、Zr2InN、Nb2InC、Hf2InC、Sc2InC、Ti3InC2、Ti2GaC、Ti2GaN、V2GaC、V2GaN、Cr2GaC、Gr2GaN、Nb2GaC、Mo2GaC、Ta2GaC、Sc2GaC、Ti3GaC3、Ti2ZnC、Ti2ZnN、V2ZnC、Ti3ZnC2、Ti2CdC、Ti2TlC、Zr2TlC、Zr2TlN、Hf2TlC、Sc2TlC、Hf2PbC、Ti2PbC或Zr2PbC中的一种。
4.根据权利要求1所述的抑制MAX相中A位元素晶须生长的方法,其特征在于,所述机械损伤的方式为断裂、打磨、划伤、抛光或球磨中的一种。
5.根据权利要求1所述的抑制MAX相中A位元素晶须生长的方法,其特征在于,所述MAX相固溶体经损伤处理后,抑制晶须生长的适用培养条件为:温度范围为低于MAX相的热解温度,湿度为0~100%。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东南大学,未经东南大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202210047770.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。