[发明专利]低温负性黑色光刻胶组合物及其黑色矩阵

权利要求书

1.一种低温负性黑色光刻胶组合物，其特征在于：包括有机溶剂和溶解在有机溶剂中的溶质，溶质占组合物总重量的15-60%，其中溶质包括：含有双键和羟基的光固化树脂、碱溶性丙烯酸酯类光聚合单体、光引发剂、黑色着色剂、低温封闭型异氰酸酯交联剂和表面活性剂；

100重量份的溶质中的含有双键和羟基的光固化树脂的含量为10-35重量份，光引发剂的含量为0.01-50重量份，

所述碱溶性丙烯酸酯类光聚合单体为丁二酸酐改性或非改性的三（甲基）丙烯酸季戊四醇酯、四（甲基）丙烯酸季戊四醇酯、五（甲基）丙烯酸双季戊四醇酯和六（甲基）丙烯酸双季戊四醇酯中的一种或多种。

2.根据权利要求1所述的低温负性黑色光刻胶组合物，其特征在于：所述含有双键和羟基的光固化树脂包括含有不饱和双键的丙烯酸树脂、Cardo树脂、聚酯树脂、聚氨酯树脂和环氧树脂中的一种或多种。

3.根据权利要求1所述的低温负性黑色光刻胶组合物，其特征在于：所述光固化树脂的重均分子量范围为1000-50000Da。

4.根据权利要求1所述的低温负性黑色光刻胶组合物，其特征在于：所述光引发剂为BASF市售的OXE-01、OXE-02和OXE-03中的一种或多种。

5.根据权利要求1所述的低温负性黑色光刻胶组合物，其特征在于：所述低温封闭性异氰酸酯交联剂在温度80-120℃之间能够与光固化树脂以及单体中的羟基和羧基发生交联反应，所述低温封闭性异氰酸酯交联剂为日本旭化成市售MF-K60X、荷兰拓纳FAB或FAC中的一种。

6.根据权利要求1所述的低温负性黑色光刻胶组合物，其特征在于：所述黑色着色剂为无机黑色着色剂或有机黑色着色剂或两者的组合。

7.根据权利要求6所述的低温负性黑色光刻胶组合物，其特征在于：所述无机黑色着色剂包括炭黑、钛黑、合成铁黑和金属氧化物中的一种或多种；所述有机黑色着色剂包括苯胺黑、内酰胺黑和苝黑中的一种或多种。

8.根据权利要求1所述的，其特征在于：所述溶剂为丙二醇单丙醚、二丙二醇二甲醚、二丙二醇二乙醚、丙二醇甲醚乙酸酯、丙二醇乙醚乙酸酯、丙二醇丙醚乙酸酯、二丙二醇甲醚乙酸酯、丙二醇丁醚乙酸酯、甲苯、二甲苯、甲基乙基酮、4-羟基-4-甲基-2-戊酮、环戊酮或环己酮中的一种。

9.一种黑色矩阵，其特征在于：使用权利要求1所述的低温负性黑色光刻胶组合物制备。