[发明专利]一种大尺寸钼靶材及其制备方法与应用

权利要求书

1.一种大尺寸钼靶材的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括依次进行的高纯钼粉装模、冷等静压、烧结、热轧、校平、热处理、机械加工、清洁包装，进而制备得到所述大尺寸钼靶材；

其中，所述热轧采取阶段热轧法进行，具体包括依次进行的第一热轧处理、第二热轧处理以及第三热轧处理。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述高纯钼粉的纯度≥99.96％；

优选地，所述高纯钼粉中钾含量≤20ppm；

优选地，所述高纯钼粉装模包括先将高纯钼粉装入胶套、滚压、震荡后反复辊压再反复震动平整，而后密封。

3.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，所述冷等静压采用四级加压方式以及四级泄压方式；

优选地，所述冷等静压的压力为170-250MPa；

优选地，所述冷等静压的时间为30-60min。

4.根据权利要求1-3任一项所述的制备方法，其特征在于，所述烧结温度为1800-2000℃；

优选地，所述烧结的时间为30-60h；

优选地，所述烧结后钼靶坯的整体厚度偏差≤4mm，两边厚度差≤2mm；

优选地，所述烧结后钼靶坯的密度为9.8-10g/cm³。

5.根据权利要求1-4任一项所述的制备方法，其特征在于，所述热轧采用一火二道次轧制法；

优选地，所述第一热轧处理的火次加热温度为1200-1400℃，道次变形量为20-30％，热轧速度为30-60m/min；

优选地，所述第二热轧处理的火次加热温度为1150-1350℃，道次变形量为15-25％，热轧速度为40-70m/min；

优选地，所述第三热轧处理的火次加热温度为1100-1300℃，道次变形量为10-20％，热轧速度为50-80m/min。

6.根据权利要求1-5任一项所述的制备方法，其特征在于，所述校平后钼靶坯的平整度≤1.5mm；

优选地，所述热处理的温度为1000-1400℃；

优选地，所述热处理的时间为10-90min。

7.根据权利要求1-6任一项所述的制备方法，其特征在于，所述机械加工包括对钼靶坯依次进行切割、铣床加工和磨床加工。

8.根据权利要求1-7任一项所述的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括如下步骤：

(1)高纯钼粉装模：将纯度≥99.96％、钾含量≤20ppm的高纯钼粉装入胶套、滚压、震荡后反复辊压再反复震动平整，而后密封；

(2)冷等静压：采用四级加压方式以及四级泄压方式；所述冷等静压的压力为170-250MPa，时间为30-60min；

(3)烧结：将冷等静压压制后的钼靶坯在1800-2000℃的温度下烧结30-60h；所述烧结后的钼靶坯的密度为9.8-10g/cm³；整体厚度偏差≤4mm，两边厚度差≤2mm；

(4)热轧：采用一火二道次轧制法将所述烧结后的钼靶坯依次进行第二热轧处理以及第三热轧处理；所述第一热轧处理的火次加热温度为1200-1400℃，道次变形量为20-30％，热轧速度为30-60m/min；所述第二热轧处理的火次加热温度为1150-1350℃，道次变形量为15-25％，热轧速度为40-70m/min；所述第三热轧处理的火次加热温度为1100-1300℃，道次变形量为10-20％，热轧速度为50-80m/min；

(5)校平：校平步骤(4)所述烧结后的钼靶坯，得到平整度≤1.5mm的钼靶坯；

(6)热处理：在1100-1400℃的温度下热处理步骤(5)所得校平后的钼靶坯10-90min；

(7)机械加工：对步骤(6)所得热处理后的钼靶坯依次进行切割、铣床加工和磨床加工；

(8)清洁包装：清洗步骤(7)所得钼靶坯，得到所述大尺寸钼靶材。