[发明专利]提供光控制构件的方法

权利要求书

1.一种提供光控制构件的方法，包括：

提供包括阻挡壁层的基底基板，所述阻挡壁层包括多个阻挡壁，所述多个阻挡壁彼此间隔开以在邻近的阻挡壁之间限定凹部；

在所述基底基板的所述凹部中提供包括量子点的光控制树脂；

将具有等于或大于430纳米且等于或小于500纳米的波长的第一光提供到未被照射的光控制树脂，以提供第一照射的光控制树脂；

将具有比所述第一光的所述波长短的波长的第二光提供到所述第一照射的光控制树脂，以提供第二照射的光控制树脂；以及

提供所述第二照射的光控制树脂的热处理，以提供所述光控制构件的位于所述基底基板的所述凹部中的热处理后的光控制树脂。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，

在所述基底基板的所述凹部中提供所述光控制树脂包括：在所述基底基板的所述凹部中提供所述未被照射的光控制树脂，并且

提供所述第一光包括：将所述第一光提供到在所述基底基板的所述凹部中的所述未被照射的光控制树脂。

3.根据权利要求2所述的方法，进一步包括：

在提供所述第一光与提供所述第二光之间，在比所述第二照射的光控制树脂的所述热处理的温度低的温度下提供所述第一照射的光控制树脂的初步热处理或真空干燥。

4.根据权利要求1所述的方法，其中，提供所述第一光在提供所述光控制树脂之前被执行。

5.根据权利要求4所述的方法，进一步包括：

在提供所述第一照射的光控制树脂与提供所述第二光之间，在比所述第二照射的光控制树脂的所述热处理的温度低的温度下提供所述第一照射的光控制树脂的初步热处理或真空干燥。

6.根据权利要求1所述的方法，其中，

所述未被照射的光控制树脂、所述第一照射的光控制树脂、所述第二照射的光控制树脂和所述热处理后的光控制树脂中的每一个具有所述量子点的分布密度，并且

所述量子点的所述分布密度按照所述未被照射的光控制树脂、所述第一照射的光控制树脂、所述第二照射的光控制树脂和所述热处理后的光控制树脂的顺序增加。

7.根据权利要求1所述的方法，其中，提供所述第一光在等于或大于25摄氏度且等于或小于80摄氏度的温度下执行。

8.根据权利要求1所述的方法，其中，所述第二光具有等于或大于300纳米且等于或小于410纳米的中心波长。

9.根据权利要求1所述的方法，其中，提供所述第二光包括：在提供所述第一光之后固化所述第一照射的光控制树脂。

10.根据权利要求1至9中任一项所述的方法，其中，

所述基底基板进一步包括：

滤光器层，和

基底层，面对所述阻挡壁层，所述滤光器层在所述基底层与所述阻挡壁层之间，

所述凹部将所述滤光器层暴露于所述阻挡壁层的外部，并且

提供所述光控制树脂包括：提供接触所述滤光器层的所述光控制树脂。