[发明专利]一种苯硼酸修饰的水溶性近红外二区荧光造影剂及其应用

说明书

本发明属于纳米生物医学成像技术领域，涉及一种苯硼酸修饰的离子型水溶性近红外二区荧光成像造影剂及其应用。该水溶性造影剂以近红外二区荧光电子供‑受体结构为核，在芴的侧链连接有阳离子和苯硼酸。本发明制备的造影剂拥有良好的水溶性、生物相容性和对肿瘤的靶向识别能力，能够实现高清晰度的近红外二区荧光成像效果。更为重要的是苯硼酸结构可以负载多种药物，该造影剂在药物载运等方面也有应用前景。

技术领域

本发明属于纳米生物医学成像技术领域，具体涉及一种苯硼酸修饰的离子型水溶性近红外二区荧光成像造影剂及其应用。

背景技术

荧光成像是一种传统的光学成像技术，根据不同的生物组织光学窗口，它可被分为可见光区(200-650nm)荧光成像、近红外一区(NIR-I，700-900nm)荧光成像和近红外二区(NIR-II,1000-1700nm)荧光成像。相比于近红外一区荧光成像的不足，荧光发射波长范围超过1000nm的近红外二区荧光对生物组织的散射和自吸收都降至最低，从而使NIR-II荧光成像的成像穿透深度更深，成像分辨率更高，成像时自发荧光背景更弱，致使NIR-II荧光成像技术可在生物体内获得更好的成像质量。

经过近几年的发展，近红外二区荧光造影剂的种类逐渐增多，可大致分为无机纳米材料、有机共轭聚合物和有机小分子三类。其中有机小分子NIR-II荧光材料主要包括电子供体-受体(D-A)结构小分子和一些杂环取代的亚甲基染料，相比其他种类材料，有机D-A结构分子在生物体内易代谢，具有极好的生物相容性，是十分理想的近红外二区荧光造影剂。

现有技术存在以下缺陷：然而现在报道的D-A型NIR-II荧光造影剂水溶性较差，并且侧链缺乏功能性基团(如苯硼酸等)，限制了其在药物负载等方面的应用。

发明内容

目的：本发明提供了一种通苯硼酸修饰的离子型水溶性近红外二区荧光成像造影剂及其制备方法和应用，旨在提高近红外二区荧光成像造影剂的水溶性、功能性、高亮度，实现更好的近红外二区荧光成像效果。

技术方案：为解决上述技术问题，本发明采用的技术方案为：

第一方面，提供一种化合物，为式(I)化合物或其盐：

其中，

R1表示H或

环C表示或

在一些实施例中，所述化合物为

在一些实施例中，所述化合物为

在一些实施例中，所述式A化合物的合成路线包括：

在一些实施例中，所述式B化合物的合成路线包括：

第三方面，提供上述的化合物的一些应用。

一种诊断试剂，包含上述的化合物。

一种诊断组合物，包含上述的化合物以及药学上可接受的载体或赋形剂。

如上述的化合物在制备用作近红外二区荧光成像造影剂的诊断组合物中的应用。

进一步的，所述的应用，将上述的化合物溶于水中，即得造影剂。

优选的，所述近红外二区荧光成像造影剂中化合物的浓度为0.2～20mg/ml。