[发明专利]一种用于对导弹的外流场网格进行处理的方法和相关产品在审
申请号: | 202210062349.2 | 申请日: | 2022-01-19 |
公开(公告)号: | CN114676496A | 公开(公告)日: | 2022-06-28 |
发明(设计)人: | 郑晓朋;魏宏夔;罗钟铉;段君毅;雷娜;王超;张岳;李怡昕 | 申请(专利权)人: | 大连理工大学;北京电子工程总体研究所 |
主分类号: | G06F30/15 | 分类号: | G06F30/15;G06F30/20 |
代理公司: | 北京维昊知识产权代理事务所(普通合伙) 11804 | 代理人: | 孙新国 |
地址: | 116024 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 导弹 外流 网格 进行 处理 方法 相关 产品 | ||
1.一种用于对导弹的外流场网格进行处理的方法,包括:
构建与导弹外形相关联的初始外流场六面体网格;
响应于所述导弹外形发生形变,基于形变参数量计算所述导弹外形发生形变的形变刻画因子;
利用所述形变刻画因子评估所述导弹外形发生形变对应的变形外流场六面体网格的稀疏程度并且获得评估结果;以及
根据所述评估结果对所述初始外流场六面体网格执行网格拓扑变化操作,以获得变换后的外流场六面体网格。
2.根据权利要求1所述的方法,其中所述形变刻画因子至少包括旋转角度和倾斜角度。
3.根据权利要求2所述的方法,其中利用所述形变刻画因子评估所述导弹外形发生形变对应的变形外流场六面体网格的稀疏程度并且获得评估结果包括:
计算所述导弹外形上相邻的特征模块对应的形变刻画因子的差值;
将所述差值与预设阈值进行比对;以及
基于所述差值与预设阈值的比对结果来评估所述相邻的特征模块处的局部变形后的外流场六面体网格的稀疏程度并且获得评估结果。
4.根据权利要求3所述的方法,其中基于所述差值与预设阈值的比对结果来评估所述相邻的特征模块处的局部变形后的外流场六面体网格的稀疏程度并且获得评估结果包括:
响应于所述差值大于所述预设阈值,获得所述相邻的特征模块处的局部变形外流场六面体网格为稀疏的评估结果;或者
响应于所述差值小于所述预设阈值,获得所述相邻的特征模块处的局部变形外流场六面体网格为密集的评估结果。
5.根据权利要求4所述的方法,其中所述特征模块至少包括导弹弹舵。
6.根据权利要求4所述的方法,其中根据所述评估结果对所述初始外流场六面体网格执行网格拓扑变化操作,以获得变换后的外流场六面体网格包括:
响应于所述局部变形外流场六面体网格稀疏,对所述初始外流场六面体网格对应的局部区域执行对偶增加的网格拓扑变化操作或者增加奇异点的网格拓扑变化操作;或者
响应于所述局部变形外流场六面体网格密集,对所述初始外流场六面体网格对应的局部区域执行对偶删除的网格拓扑变化操作。
7.根据权利要求1所述的方法,还包括:根据所述导弹外形的几何特征对所述变换后的外流场六面体网格进行几何优化,以获得优化后的外流场六面体网格。
8.根据权利要求7所述的方法,其中根据所述导弹外形的几何特征对所述变换后的外流场六面体网格进行几何优化,以获得优化后的外流场六面体网格包括:
建立所述变换后的外流场六面体网格中变形区域的点和变形区域外的点之间的对应关系;
根据所述对应关系和所述导弹外形的几何特征,利用插值法对所述变换后的外流场六面体网格中变形区域的点的坐标进行优化,以获得优化后的外流场六面体网格。
9.一种用于对导弹的外流场网格进行处理的设备,包括:
处理器;以及
与所述处理器相连接的存储器,所述存储器中存储有计算机程序代码,当所述计算机程序代码被执行时,使得所述处理器执行如权利要求1-8中任意一项所述的方法。
10.一种计算机可读存储介质,其上存储有用于对导弹的外流场网格进行处理的计算机可读指令,该计算机可读指令被一个或多个处理器执行时,实现如权利要求1-8中任意一项所述的方法。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于大连理工大学;北京电子工程总体研究所,未经大连理工大学;北京电子工程总体研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202210062349.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种撕膜组件及贴电池绝缘片机
- 下一篇:水深检测方法及系统