[发明专利]一种高密度气体水溶用反应釜

权利要求书

1.一种高密度气体水溶用反应釜，包括釜体(1)和支脚(2)，支脚(2)安装在釜体(1)的底面，其特征在于：所述釜体(1)的内部底端安装有支架(3)，釜体(1)内设有反应腔(4)，反应腔(4)放置在支架(3)上，反应腔(4)的底面与支架(3)焊接且密封，反应腔(4)的上端固定安装有外扩端(5)，反应腔(4)的上端套接有缓冲盖(6)，缓冲盖(6)位于釜体(1)内，缓冲盖(6)的底端安装有收缩端(7)，收缩端(7)上固定安装有密封橡胶膜(8)，密封橡胶膜(8)的内圈与外扩端(5)固定连接且密封，缓冲盖(6)的上端设有实验腔(9)，实验腔(9)的上端固定安装有密封板(10)，缓冲盖(6)的底端位于收缩端上固定安装有多个配重块(11)；

所述釜体(1)内轴心位置竖向插接有通气管A(12)，通气管A(12)贯穿实验腔(9)、密封板(10)和缓冲盖(6)并与其密封连接，通气管A(12)的下端贯穿缓冲盖(6)底端之后固定安装有弹性延伸管(13)，弹性延伸管(13)远离通气管A(12)的一端固定安装有通气管B(14)，通气管A(12)通过弹性延伸管(13)与通气管B(14)的内部连通，通气管B(14)的下端插接在反应腔(4)中，通气管B(14)的底端固定安装有加压管(15)，加压管(15)与反应腔(4)的内底壁固定连接，通气管B(14)与加压管(15)的内部连通，加压管(15)的圆周面开设有多个与其内部连通的通槽(16)，加压管(15)的圆周面位于通槽(16)的位置均固定安装有导向板(17)，加压管(15)的外部套接有扰流圈(18)，扰流圈(18)的外部开设有多个等距离分布的气孔(19)，扰流圈(18)防止在反应腔(4)的内底壁上，反应腔(4)的内底壁固定安装有多个限位杆(20)，多个限位杆(20)分布在扰流圈(18)的一周，扰流圈(18)的运动受到限位杆(20)的限制；

所述通气管A(12)位于釜体(1)外部的一端安装有通气管C(21)，通气管C(21)贯穿缓冲盖(6)延伸至反应腔(4)的上方。

2.根据权利要求1所述的一种高密度气体水溶用反应釜，其特征在于：所述实验腔(9)上安装有两个气阀，一个气阀与反应腔(4)内连通，另一个气阀与外界连通。

3.根据权利要求1所述的一种高密度气体水溶用反应釜，其特征在于：所述收缩端(7)与外扩端(5)同心，收缩端(7)与外扩端(5)配合，实验腔(9)的底面与外扩端(5)的内壁配合。

4.根据权利要求1所述的一种高密度气体水溶用反应釜，其特征在于：所述配重块(11)分布在釜体(1)与反应腔(4)之间，多个配重块(11)等距离分布。

5.根据权利要求1所述的一种高密度气体水溶用反应釜，其特征在于：所述通气管A(12)与缓冲盖(6)的连接位置以及与密封板(10)的连接位置均安装有密封垫。

6.根据权利要求1所述的一种高密度气体水溶用反应釜，其特征在于：所述加压管(15)的内部为空腔结构，加压管(15)位于反应腔(4)的内底壁中心位置。

7.根据权利要求1所述的一种高密度气体水溶用反应釜，其特征在于：所述导向板(17)均向一个方向倾斜，导向板(17)为弧形结构。