[发明专利]真空冷喷涂系统

权利要求书

1.一种真空冷喷涂系统，其特征在于，包括送粉器、连接于压缩气源的气体控制单元、连接于所述送粉器和所述气体控制单元的真空沉积室、设置于所述真空沉积室内的喷涂管、连接于所述真空沉积室的真空排气单元；

其中，所述气体控制单元用于控制调节进入所述真空沉积室的喷涂用气的气体压力及流量，所述喷涂管用于在所述真空沉积室内进行真空喷涂作业，所述送粉器用于为真空喷涂作业提供喷涂粉末，所述真空排气单元用于抽取所述真空沉积室内真空喷涂作业后的喷涂气体，以使得所述真空沉积室内以一定真空度维持真空动态平衡状态。

2.根据权利要求1所述的真空冷喷涂系统，其特征在于，所述送粉器采用负压送粉形式。

3.根据权利要求1所述的真空冷喷涂系统，其特征在于，所述气体控制单元包括连接于所述真空沉积室的主气出口和连接于所述送粉器的送粉气出口，所述送粉器采用主动供气送粉形式或负压送粉形式；所述真空沉积室包括连接于所述主气出口的主气接口、连接于所述送粉器的送粉接口以及连接于所述主气接口、所述送粉接口与所述喷涂管的混合管。

4.根据权利要求3所述的真空冷喷涂系统，其特征在于，还包括气体加热器，所述气体加热器分别连接所述气体控制单元的主气出口和所述真空沉积室的主气接口。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的真空冷喷涂系统，其特征在于，还包括真空控制柜，所述真空控制柜通信连接于所述真空沉积室和所述真空排气单元，以用于设置所述真空沉积室的喷涂工作真空压力，并通过检测所述真空沉积室内的实时真空压力值与设置的所述喷涂工作真空压力进行闭环控制，从而控制所述真空排气单元调节排气量。

6.根据权利要求5所述的真空冷喷涂系统，其特征在于，所述真空排气单元包括真空泵组和电动阀门，所述电动阀门分别连接所述真空沉积室和所述真空泵组；所述真空泵组通过所述真空控制柜预设排气功率，所述电动阀门通过接收所述真空控制柜的控制信号进行开合度调节。

7.根据权利要求6所述的真空冷喷涂系统，其特征在于，所述真空泵组包括一个真空泵，或多个独立或组合方式运行的真空泵。

8.根据权利要求7所述的真空冷喷涂系统，其特征在于，所述真空沉积室内还设置有多个电连接器，多个所述电连接器用于所述真空沉积室内的用电设备的供电以及控制信号传输。

9.根据权利要求8所述的真空冷喷涂系统，其特征在于，所述真空沉积室内还设置有电连接于所述真空控制柜的三维移动平台，所述三维移动平台用于放置所述基材，所述三维移动平台由所述真空控制柜控制移动。

10.根据权利要求9所述的真空冷喷涂系统，其特征在于，所述真空沉积室还包括腔室门和观察窗；所述腔室门和所述观察窗均设置在所述真空沉积室的外部室壁上。

11.根据权利要求10所述的真空冷喷涂系统，其特征在于，所述真空冷喷涂系统还包括过滤器，所述过滤器的输入端连接所述真空沉积室，所述过滤器的输出端连接所述电动阀门。

12.据权利要求11所述的真空冷喷涂系统，其特征在于，所述真空冷喷涂系统还包括散热器，所述散热器的输入端连接所述真空沉积室，所述散热器的输出端连接所述过滤器的输入端。