[发明专利]一种用于晶圆光刻胶烘干处理的设备在审
申请号: | 202210089724.2 | 申请日: | 2022-01-25 |
公开(公告)号: | CN114460811A | 公开(公告)日: | 2022-05-10 |
发明(设计)人: | 廖世容;况诗吟;谢建平 | 申请(专利权)人: | 浙江光特科技有限公司 |
主分类号: | G03F7/16 | 分类号: | G03F7/16 |
代理公司: | 南京普睿益思知识产权代理事务所(普通合伙) 32475 | 代理人: | 何薇 |
地址: | 312000 浙江省绍兴市*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 圆光 烘干 处理 设备 | ||
本发明公开了一种用于晶圆光刻胶烘干处理的设备,包括:一传送机构;多个夹具,沿所述传送机构的移动方向间隔设置在所述传送机构上;沿所述传送机构的移动方向设置有滴胶区、烘干区;一滴胶机构,位于所述滴胶区,布置于所述夹具的上方;一烘干机构,位于所述烘干区,布置于所述夹具的上方,沿所述传送机构的移动方向,所述烘干机构位于所述滴胶机构的下游侧。利用多个夹具夹持固定多个晶圆,利用传送机构带动夹具连续传送。利用滴胶机构向晶圆上滴加光刻胶。在匀胶后,利用烘干机构进行烘干处理。本实施例集合滴胶、烘干一体化处理,可以多个晶圆连续处理,效率高。
技术领域
本发明涉及晶圆处理技术领域,尤其涉及一种用于晶圆光刻胶烘干处理的设备。
背景技术
光刻胶经涂胶机涂覆后需进行烘烤,以挥发出光刻胶中的溶剂,保证光刻胶具有足够的硬度抵挡后续的刻蚀-去除(Etch-Trim)工艺中离子束的冲击,使刻蚀后的台阶层线条均匀笔直。
在中国专利申请号:CN201921844380.1中公开了一种光刻胶烘干装置,用于烘干涂覆在晶圆上的光刻胶,所述光刻胶烘干装置包括:至少一上烘干板、至少一下烘干板及一控制装置;所述上烘干板与所述下烘干板间隔设置,所述晶圆用于设置在所述上烘干板与下烘干板之间;所述控制装置分别与所述上烘干板及所述下烘干板连接,并控制所述上烘干板及所述下烘干板升温,以烘干所述光刻胶。
在中国专利申请号:CN201410612630.4中公开了一种硅片匀胶烘干操作台,包括操作台本体、匀胶机和烘干装置,在所述操作台本体桌面上设置有通孔,所述匀胶机的托盘固定在所述通孔中;所述烘干装置包括加热丝、开关和烘干板,所述开关设置在操作台本体的桌面一侧,所述加热丝位于烘干板下方,所述烘干板上表面等间距设置有若干凸筋。
在中国专利申请号:CN201510886017.6中公开了一种自动硅片匀胶机,包括机柜、上料机构、涂胶机构、烘干机构、移片机构、下料机构、片篮和电气控系统,上料机构、下料机构分别固定于机柜的工作台长向两端并同一条中心线上,在工作台的同一条中心线上并上料机构和下料机构间,依次固定涂胶机构、烘干机构,移片机构固定工作台的下面,移片机构的载片位于涂胶机构、烘干机构的上方。
上述技术方案效率低,有待进一步改进。
发明内容
为解决背景技术中存在的至少一个方面的技术问题,本发明提出一种用于晶圆光刻胶烘干处理的设备。
本发明提出的一种用于晶圆光刻胶烘干处理的设备,包括:
一传送机构;
多个夹具,沿所述传送机构的移动方向间隔设置在所述传送机构上;
沿所述传送机构的移动方向设置有滴胶区、烘干区;
一滴胶机构,位于所述滴胶区,布置于所述夹具的上方;
一烘干机构,位于所述烘干区,布置于所述夹具的上方,沿所述传送机构的移动方向,所述烘干机构位于所述滴胶机构的下游侧。
优选地,所述滴胶机构包括:
一供液箱;
多个滴胶管,沿一圆周方向均匀分布,位于所述夹具的上方,并均与所述供液箱连通。
优选地,所述夹具包括:
一吸气机构,设置在所述传送机构上;
一第一吸气箱,设置在所述传送机构上,与所述吸气机构连接;
一第二吸气箱,设置在所述第一吸气箱并与所述第一吸气箱连通;
三个吸附管,沿一旋转方向均匀间隔安装在所述第二吸气箱上,并与所述第二吸气箱连通。
优选地,所述第二吸气箱与所述第一吸气箱转动连接;
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