[发明专利]氟化物离子二次电池在审

专利信息
申请号: 202210095644.8 申请日: 2022-01-26
公开(公告)号: CN114792796A 公开(公告)日: 2022-07-26
发明(设计)人: 樱井胜俊;森田善幸 申请(专利权)人: 本田技研工业株式会社
主分类号: H01M4/58 分类号: H01M4/58;H01M4/38;H01M4/66;H01M10/05
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 徐金国;吴启超
地址: 日本东*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 氟化物 离子 二次 电池
【权利要求书】:

1.一种氟化物离子二次电池,具备:

正极材料层,包含Ag;

负极材料层,包含CeF3和PbF2中的至少一种;及,

固体电解质层,配置在前述正极材料层与前述负极材料层之间,并且包含LaF3

2.根据权利要求1所述的氟化物离子二次电池,其中,

前述负极材料层包含CeF3

所述氟化物离子二次电池还具备负极集电器层,所述负极集电器层配置在前述负极材料层的外侧,并且包括碳。

3.根据权利要求1所述的氟化物离子二次电池,其中,

前述负极材料层包含PbF2

所述氟化物离子二次电池还具备负极集电器层,所述负极集电器层配置在前述负极材料层的外侧,并且包括Pb箔。

4.根据权利要求1所述的氟化物离子二次电池,其中,

还具备正极集电器层,所述正极集电器层配置在前述正极材料层的外侧,并且包括碳。

5.根据权利要求1所述的氟化物离子二次电池,其中,

前述正极材料层的膜厚在10nm以上且不足120nm。

6.根据权利要求1所述的氟化物离子二次电池,其中,

前述正极材料层的膜厚在10nm以上且60nm以下。

7.根据权利要求1所述的氟化物离子二次电池,其中,

前述正极材料层的膜厚在10nm以上且30nm以下。

8.根据权利要求1所述的氟化物离子二次电池,其中,

前述负极材料层的膜厚在10nm以上且不足200nm。

9.根据权利要求1所述的氟化物离子二次电池,其中,

前述负极材料层的膜厚在10nm以上且100nm以下。

10.根据权利要求1所述的氟化物离子二次电池,其中,

前述负极材料层的膜厚在10nm以上且50nm以下。

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