[发明专利]一种集成RPD和PVD的镀膜设备

权利要求书

1.一种集成RPD和PVD的镀膜设备，其特征在于，包括：

载板，所述载板上设置有卡槽，所述卡槽被配置为放置太阳能电池；

上料腔室(2)，所述上料腔室(2)连通于第一抽真空装置(21)；

RPD工艺腔室(4)，所述RPD工艺腔室(4)与所述上料腔室(2)连通；

PVD工艺腔室(6)，所述PVD工艺腔室(6)通过移载腔室(5)连通于所述RPD工艺腔室(4)；

所述RPD工艺腔室(4)、所述移载腔室(5)和所述RPD工艺腔室(4)呈“U型”结构排列；

下料腔室(8)，所述下料腔室(8)连通于第二抽真空装置(81)，且所述下料腔室(8)连通于PVD工艺腔室(6)；

所述太阳能电池能够依次通过所述上料腔室(2)、所述RPD工艺腔室(4)、所述移载腔室(5)、所述PVD工艺腔室(6)以及所述下料腔室(8)。

2.根据权利要求1所述的集成RPD和PVD的镀膜设备，其特征在于，所述载板在所述移载腔室(5)内的移动方式为平移。

3.根据权利要求1所述的集成RPD和PVD的镀膜设备，其特征在于，所述集成RPD和PVD的镀膜设备包括预热腔室(3)，所述预热腔室(3)连通于所述上料腔室(2)和所述RPD工艺腔室(4)。

4.根据权利要求3所述的集成RPD和PVD的镀膜设备，其特征在于，所述集成RPD和PVD的镀膜设备包括前缓冲腔室(41)，所述前缓冲腔室(41)连通于所述预热腔室(3)和所述RPD工艺腔室(4)。

5.根据权利要求4所述的集成RPD和PVD的镀膜设备，其特征在于，所述集成RPD和PVD的镀膜设备包括后缓冲腔室(42)，所述后缓冲腔室(42)连通于所述RPD工艺腔室(4)和所述移载腔室(5)。

6.根据权利要求1所述的集成RPD和PVD的镀膜设备，其特征在于，所述集成RPD和PVD的镀膜设备包括过渡腔室(61)，所述过渡腔室(61)连通于所述PVD工艺腔室(6)和所述下料腔室(8)。

7.根据权利要求6所述的集成RPD和PVD的镀膜设备，其特征在于，所述集成RPD和PVD的镀膜设备包括冷却腔室(7)，所述冷却腔室(7)连通于所述过渡腔室(61)和所述下料腔室(8)。

8.根据权利要求1所述的集成RPD和PVD的镀膜设备，其特征在于，所述RPD工艺腔室(4)内设置有RPD发射源(43)。

9.根据权利要求1所述的集成RPD和PVD的镀膜设备，其特征在于，所述PVD工艺腔室(6)内设置有PVD发射源(62)。

10.根据权利要求1-9中任一项所述的集成RPD和PVD的镀膜设备，其特征在于，所述RPD工艺腔室(4)和所述PVD工艺腔室(6)内均设置有加热组件(63)。