[发明专利]一种用于离子Flash治疗的束流配送系统

权利要求书

1.一种用于离子Flash治疗的束流配送系统，其特征在于，包括扫描磁铁、分条电离室和剂量电离室、三维适形装置和治疗控制系统，其中，所述三维适形装置包括补偿器和脊形过滤器，所述扫描磁铁、分条电离室和剂量电离室以及所述三维适形装置的中心与靶区的中心均处于束流轴线上；

所述扫描磁铁用于将笔形离子束在垂直束流方向的平面内进行偏转；

所述分条电离室用于实时测量束流的位置；

所述剂量电离室用于实时测量束流的照射剂量；

所述补偿器用于根据靶区的形状，将偏转后的束流停留在靶区的后沿；

所述脊形过滤器的形状根据靶区的形状确定，所述脊形过滤器纵向展宽的水等效深度与靶区对应位置处的厚度一致，用于实现与靶区深度方向的三维适形展宽，使束流离子展宽后的布拉格峰宽度与靶区纵向截面的宽度一致，将偏转后的束流照射至靶区内的靶点；

所述治疗控制系统用于对所述三维适形装置的不同展宽厚度进行离子束能量的剂量标定，并根据Flash照射要求，确定靶区内每一靶点上应照射的粒子数，并控制加速器采用调制扫描模式按照得到的粒子数进行逐点照射；

所述治疗控制系统内设置有标定模块、需求设定模块和加速器控制模块；

所述标定模块用于将不同的离子束能量与所述脊形过滤器内不同展宽深度的脊形过滤器进行组合，列出所有的离子束能量与脊形过滤器的组合，并分别对每一组合进行标定，得到标定因子；

所述需求设定模块用于设定Flash照射要求，包括靶点的位置、每一靶点对应的脊形过滤器厚度及对应能量、每一靶点的剂量；

所述控制模块用于根据设定的Flash照射要求和得到的标定因子，确定靶区每一点上应照射的粒子数，并按照确定的粒子数，控制所述加速器采用调制扫描模式按照得到的粒子数进行逐点照射。

2.如权利要求1所述的一种用于离子Flash治疗的束流配送系统，其特征在于，所述三维适形装置的数量为至少一个，根据靶区的拆分位置和数量设置。

3.如权利要求1所述的一种用于离子Flash治疗的束流配送系统，其特征在于，所述补偿器和脊形过滤器单独放置或组合放置。

4.如权利要求1所述的一种用于离子Flash治疗的束流配送系统，其特征在于，所述脊形过滤器由若干独立且高度不同的金字塔形棱锥或圆锥状过滤器排列而成，每一金字塔形棱锥或圆锥状过滤器的高度水等效转换后与靶区对应位置处的厚度一致，与靶区纵向剖面的形状相契合。

5.如权利要求1所述的一种用于离子Flash治疗的束流配送系统，其特征在于，所述脊形过滤器由若干独立且高度不同的楔形块状过滤器排列而成，每一楔形块状过滤器在所在位置对应的水等效厚度与靶区对应位置处的厚度一致，与靶区纵向剖面的形状相契合。

6.如权利要求1所述的一种用于离子Flash治疗的束流配送系统，其特征在于，所述三维适形装置的脊形过滤器能按照靶区的形状沿深度方向上拆分为若干片状结构，得到若干分层的三维适形装置，对靶区进行分层适形照射，最终整体叠加后的剂量分布与靶区一致。