[发明专利]一种抛光液及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种抛光液，其特征在于，包括研磨剂、高锰酸钠、离子强度调节剂和水。

2.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于，还包括如下技术特征中的至少一项：

a1)所述研磨剂选自氧化硅、a-氧化铝、氧化铈、氧化锆、氧化锰、氧化镁、碳化硅、碳化硼和钻石中的至少一种；

a2)所述研磨剂的粒径D50为5nm～2.5um；

a3)所述研磨剂在所述抛光液中的质量浓度为0.1～40％；

a4)所述高锰酸钠在所述抛光液中的质量浓度为0.1～40％；

a5)所述离子强度调节剂为硝酸盐；

a6)所述离子强度调节剂在所述抛光液中的质量浓度为0.01～10％；

a7)所述水在所述抛光液中的质量浓度为59～95％。

3.如权利要求2所述的抛光液，其特征在于，还包括如下技术特征中的至少一项：

a41)特征a4)中，所述高锰酸钠在所述抛光液中的质量浓度为1～20％；优选为5～15％；

a51)特征a5)中，所述离子强度调节剂选自硝酸钠、硝酸钾、硝酸铵、硝酸钙、硝酸铅、硝酸铈、硝酸镁、硝酸铝、硝酸铁、硝酸钴、硝酸镍、硝酸铜、硝酸锌和硝酸银中的至少一种；优选选自硝酸镁、硝酸铝、硝酸铜和硝酸锌中的至少一种；更优选为硝酸铜；

a61)特征a6)中，所述离子强度调节剂在所述抛光液中的质量浓度为0.01～5％；优选为0.01～2％。

4.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于，还包括选自分散剂、防沉剂和pH调节剂中的至少一种。

5.如权利要求4所述的抛光液，其特征在于，还包括如下技术特征中的至少一项：

b1)所述分散剂选自六偏磷酸钠、焦磷酸钠、三聚磷酸钠、烷基芳基磷酸盐、烷基苯磺酸盐、二烷基磺基琥珀酸盐、三甲基硬脂酰胺氯化物、聚氧乙烯烷基酚基醚和山梨糖醇烷基化物中的至少一种；

b2)所述分散剂在所述抛光液中的质量浓度为0.01～5％；

b3)所述防沉剂选自有机膨润土、蓖麻油衍生物、气相二氧化硅和改性聚脲的N-甲基吡咯烷酮溶液中的至少一种；

b4)所述防沉剂在所述抛光液中的质量浓度为0.01～1％；

b5)所述pH调节剂为pH酸性调节剂或pH碱性调节剂。

6.如权利要求5所述的抛光液，其特征在于，还包括如下技术特征中的至少一项：

b11)特征b1)中，所述分散剂选自六偏磷酸钠、焦磷酸钠和三聚磷酸钠中的至少一种；优选为六偏磷酸钠；

b21)特征b2)中，所述分散剂在所述抛光液中的质量浓度为0.1～3％；优选为0.1～1％；

b31)特征b3)中，所述防沉剂为有机膨润土；

b41)特征b4)中，所述防沉剂在所述抛光液中的质量浓度为0.01～0.5％；优选为0.01～0.1％；

b51)特征b5)中，所述pH酸性调节剂选自盐酸、硫酸和硝酸中的至少一种；优选为硝酸；

b52)特征b5)中，所述pH碱性调节剂选自氢氧化钠和氢氧化钾中的至少一种。

7.如权利要求1至6任一项所述的抛光液，其特征在于，所述抛光液的pH值为2～12；优选地，所述抛光液的pH值酸性范围为2～5，pH值碱性范围为8～12。

8.一种如权利要求1至7任一项所述的抛光液的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：将所述抛光液中的各组分进行混合，得到所述抛光液；优选地，将除水之外的所述抛光液中的各组分分散于水中，得到所述抛光液；更优选地，将除水和所述pH调节剂之外的所述抛光液中的各组分分散于水中，采用所述pH调节剂调节pH值，得到所述抛光液。

9.一种如权利要求1至7任一项所述的抛光液在碳化硅抛光领域中的用途。

10.如权利要求9所述的抛光液的用途，其特征在于，还包括如下技术特征中的至少一项：

1)所述碳化硅为3C-SiC、4H-SiC、6H-SiC或碳化硅陶瓷类制品；

2)所述抛光液用于超精密光学器件或半导体功率器件的碳化硅表面抛光。