[发明专利]一种底部抗反射涂料组合物及其制备方法和微电子结构的形成方法有效

专利信息
申请号: 202210102218.2 申请日: 2022-01-27
公开(公告)号: CN114517023B 公开(公告)日: 2022-12-20
发明(设计)人: 毛鸿超;李禾禾;王静;肖楠;宋里千 申请(专利权)人: 福建泓光半导体材料有限公司
主分类号: C09D5/00 分类号: C09D5/00;C09D4/00;C09D7/63;G03F7/004;G03F7/09
代理公司: 厦门荔信律和知识产权代理有限公司 35282 代理人: 赖秀华
地址: 363100 福建省漳*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 底部 反射 涂料 组合 及其 制备 方法 微电子 结构 形成
【权利要求书】:

1.一种底部抗反射涂层组合物,其特征在于,所述底部抗反射涂层组合物中含有改性刚性有机笼状化合物和乙烯基醚类化合物以及有机溶剂,所述改性刚性有机笼状化合物为将刚性有机笼状化合物中的部分酚羟基修饰转化为修饰基团所得的化合物,所述修饰基团的通式为-O-R1,R1为生色基团、酸不稳定基团、酸性基团或非功能性基团;所述刚性有机笼状化合物为由戊二醛和间苯二酚通过动态共价化学法制备得到的含有24个酚羟基、分子侧面含有6个孔洞、具有疏水中空结构且整个分子呈现笼状结构的化合物;所述乙烯基醚类化合物具有两个以上乙烯基醚端基;

所述底部抗反射涂层组合物中还含有光酸产生剂、淬灭剂、表面活性剂和其他添加剂中的至少一种;

以所述底部抗反射涂层组合物的总重量为100wt%计,所述改性刚性有机笼状化合物的含量为0.2~10wt%,所述乙烯基醚类化合物的含量为0.1~10wt%,所述光酸产生剂的含量为0.005~0.1wt%,所述淬灭剂的含量为0.001~0.05wt%,所述表面活性剂的含量为0.01~0.5wt%,所述其他添加剂的含量为0~1wt%,所述有机溶剂的含量为90~99wt%,各组分的总含量为100%。

2.根据权利要求1所述的底部抗反射涂层组合物,其特征在于,所述刚性有机笼状化合物按照以下方法制备得到:在非氧化型酸的存在下且在惰性气体保护下,将间苯二酚与戊二醛按照摩尔比(4~6):1在醇类溶剂中于70~80℃下缩合反应40~60h,反应完毕后,将所得缩合反应溶液进行醇沉析晶,过滤,所得固体产物经醚洗后干燥,得到刚性有机笼状化合物。

3.根据权利要求2所述的底部抗反射涂层组合物,其特征在于,所述非氧化型酸选自浓盐酸、对甲基苯磺酸和三氟乙酸中的至少一种。

4.根据权利要求2所述的底部抗反射涂层组合物,其特征在于,所述醇类溶剂选自乙醇、异丙醇和丁醇中的至少一种。

5.根据权利要求2所述的底部抗反射涂层组合物,其特征在于,所述醇沉析晶所采用的溶剂为甲醇。

6.根据权利要求2所述的底部抗反射涂层组合物,其特征在于,所述醚为乙醚。

7.根据权利要求1所述的底部抗反射涂层组合物,其特征在于,所述改性刚性有机笼状化合物为将刚性有机笼状化合物中的2~22个酚羟基修饰转化为修饰基团所得的化合物。

8.根据权利要求1~7任意一项所述的底部抗反射涂层组合物,其特征在于,所述生色基团由式(1)所示的结构表示;所述酸不稳定基团由式(2)~(4)所示的结构表示;所述酸性基团为羧基、酚羟基或氟化醇基;所述非功能性基团为C1~C10的烷基或C3~C10的环烷基;

R2为-(CH2)n1-O-或-(CH2)n2-,n1为1~6,n2为0~6;R3为-(CH2)n3-O-、-O-(CH2)n4-或-(CH2)n5-,n3和n4各自独立地为1~6,n5为0~6;R4为任选经取代的C6~C20芳基。

9.根据权利要求8所述的底部抗反射涂层组合物,其特征在于,以所述修饰基团的总含量为基准,含生色基团的修饰基团占0~50%,含酸不稳定基团的修饰羟基占0~40%,含酸性基团的修饰羟基占0~20%,含非功能性基团的修饰羟基占0~40%。

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