[发明专利]光学干涉测量方法及测量系统

权利要求书

1.一种光学干涉测量系统，其特征在于，包括

照明模块，所述照明模块适宜于产生照明光，所述照明光经待测物体作用后形成携带有待测信息的信号光；

参考光生成模块，所述参考生成模块包括沿所述信号光的入射光轴依次设置的第一分光面和第二分光面，所述第一分光面适宜于将所述信号光分为近轴传播的物光和初始参考光，所述第二分光面适宜于提取所述初始参考光中空间频率为零的部分以形成参考光；所述参考光和所述物光合束干涉以形成待测光；

记录模块，所述记录模块适宜于采集所述待测光以获得干涉条纹数据。

2.如权利要求1所述的光学干涉测量系统，其特征在于，所述第一分光面为部分反射面，所述第一分光面反射部分所述信号光以形成所述物光，所述第一分光面透射剩余的所述信号光以形成所述初始参考光。

3.如权利要求1所述的光学干涉测量系统，其特征在于，所述第二分光面适宜于通过反射作用或透射作用对所述初始参考光进行空间滤波以提取所述初始参考光中空间频率为零的部分形成参考光。

4.如权利要求3所述的光学干涉测量系统，其特征在于，所述第二分光面包括作用区和消光区，所述消光区包围所述作用区，所述作用区透射或者反射部分所述初始参考光以形成所述参考光。

5.如权利要求4所述的光学干涉测量系统，其特征在于，所述作用区为反光区，所述作用区的第二分光面的反射率大于所述消光区的第二分光面的反射率。

6.如权利要求4所述的光学干涉测量系统，其特征在于，所述作用区的第二分光面上具有反射膜。

7.如权利要求5或6所述的光学干涉测量系统，其特征在于，所述消光区的第二分光面吸收剩余的所述初始参考光；或者所述消光区的第二分光面透射剩余的所述初始参考光。

8.如权利要求4所述的光学干涉测量系统，其特征在于，所述作用区为透光区，所述作用区的第二分光面的透射率大于所述消光区的第二分光面的透射率。

9.如权利要求8所述的光学干涉测量系统，其特征在于，所述作用区的第二分光面上具有增透膜。

10.如权利要求8或9所述的光学干涉测量系统，其特征在于，所述消光区的第二分光面吸收剩余的所述初始参考光；或者所述消光区的第二分光面反射剩余的所述初始参考光。

11.如权利要求4所述的光学干涉测量系统，其特征在于，朝向所述第一分光面的方向，所述作用区的第二分光面凸起于所述消光区的第二分光面。

12.如权利要求4所述的光学干涉测量系统，其特征在于，平行所述第二分光面的表面内，所述作用区呈圆形，直径在0.1微米至10毫米范围内；或者所述作用区呈椭圆形，短轴在0.1微米至10毫米范围内；或者所述作用区呈矩形，边长在0.1微米至10毫米范围内。

13.如权利要求4所述的光学干涉测量系统，其特征在于，还包括：傅里叶变换模块，所述傅里叶变换模块位于所述待测物体和所述参考光生成模块之间的光路上，所述第二分光面位于所述傅里叶变换模块的傅里叶面的位置。

14.如权利要求13所述的光学干涉测量系统，其特征在于，所述傅里叶变换模块使所述初始参考光在所述第二分光面上的零级光斑位于所述作用区内。

15.如权利要求1～4中任一项所述的光学干涉测量系统，其特征在于，所述第一分光面和所述第二分光面相互平行。

16.如权利要求15所述的光学干涉测量系统，其特征在于，所述参考光生成模块包括法布里-珀罗腔，所述第一分光面和所述第二分光面分别为所述法布里-珀罗腔的两个腔面。