[发明专利]一种等离子体处理装置

权利要求书

1.一种等离子体处理装置，其特征在于，包含：

真空反应腔，其内设置有可移动下电极组件；

移动接地环，其环绕设置于可移动下电极组件的底部；

固定接地环，其环绕设置于所述移动接地环的下方并与所述真空反应腔的底部接触；

可伸缩密封组件，其环绕设置于移动接地环和固定接地环之间；

导电连接件，用于在所述移动接地环和固定接地环之间形成射频路径，所述可伸缩密封组件的外壁到真空反应腔的中心轴的距离小于所述移动接地环的外径；

固定于所述真空反应腔底部的射频匹配器，其具有射频回路的射频发射端和射频接收端。

2.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于，

所述导电连接件电连接所述移动接地环和固定接地环。

3.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于，

所述导电连接件设置于所述可伸缩密封组件远离真空反应腔内侧壁的一侧。

4.如权利要求3所述的等离子体处理装置，其特征在于，

还包含：与可移动下电极相对设置的上电极组件；

导电支撑杆，其两端分别与可移动下电极组件和射频匹配器的射频发射端连接；

所述真空反应腔包含反应腔侧壁和反应腔底壁；所述可伸缩密封组件电连接所述移动接地环和固定接地环；

所述等离子体处理装置的射频路径为：从射频匹配器的射频发射端输出的射频电流经导电支撑杆进入可移动下电极组件，经上电极组件和可移动下电极组件之间的电浆进入上电极组件，而后依次经反应腔侧壁、固定接地环内侧、可伸缩密封组件外侧、移动接地环外侧、移动接地环内侧、移动接地环底部、导电连接件内侧、固定接地环内侧、反应腔底壁传输至射频匹配器的射频接收端。

5.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于，

所述导电连接件的长度大于或等于所述可伸缩密封组件的最大高度。

6.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于，

所述导电连接件制备材料的电导率大于所述可伸缩密封组件制备材料的电导率。

7.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于，

所述导电连接件为导线或柔性金属片。

8.如权利要求7所述的等离子体处理装置，其特征在于，

所述导线为铜导线，所述柔性金属片为柔性铜片。

9.如权利要求7所述的等离子体处理装置，其特征在于，

所述柔性金属片为弯折金属片，其弯折方向朝向真空反应腔腔体中心。

10.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于，

所述导电连接件设置有多个，各个导电连接件关于可移动下电极组件中心轴对称设置。

11.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于，

所述可伸缩密封组件的制备材料为不锈钢。

12.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于，

所述可伸缩密封组件包含波纹管。

13.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于，

所述导电连接件的顶部和底部分别与所述可伸缩密封组件的顶部和底部电连接。

14.如权利要求1或13所述的等离子体处理装置，其特征在于，

所述可伸缩密封组件的端部采用法兰组件固定于移动接地环和固定接地环上。

15.如权利要求14所述的等离子体处理装置，其特征在于，

所述法兰组件与移动接地环或固定接地环接触处设置有若干个密封件。