[发明专利]一种原位监测镁合金动态腐蚀过程的荧光探针及其制备和应用有效
| 申请号： | 202210106197.1 | 申请日： | 2022-01-28 |
| 公开（公告）号： | CN114507182B | 公开（公告）日： | 2023-09-26 |
| 发明（设计）人： | 王迎军;高蒙;童许波;郝丽静 | 申请（专利权）人： | 华南理工大学 |
| 主分类号： | C07D221/16 | 分类号： | C07D221/16;C09K11/06;G01N17/00;G01N21/64 |
| 代理公司： | 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 | 代理人： | 陈智英 |
| 地址： | 510640 广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 原位 监测 镁合金 动态 腐蚀 过程 荧光 探针 及其 制备 应用 | ||
【权利要求书】：
1.一种原位监测镁合金动态腐蚀过程的荧光探针，其特征在于：其结构如下：
2.根据权利要求1所述原位监测镁合金动态腐蚀过程的荧光探针的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：将式II-1化合物进行氧化，得到式I-1的荧光探针；
式II-1化合物为
3.根据权利要求2所述原位监测镁合金动态腐蚀过程的荧光探针的制备方法，其特征在于：
所述氧化的氧化剂为3-氯过氧苯甲酸或H2O2。
4.根据权利要求3所述原位监测镁合金动态腐蚀过程的荧光探针的制备方法，其特征在于：
当氧化剂为3-氯过氧苯甲酸时，所述氧化是以有机溶剂为反应介质；所述有机溶剂为二氯甲烷。
5.根据权利要求2所述原位监测镁合金动态腐蚀过程的荧光探针的制备方法，其特征在于：
所述氧化的温度为-2～20℃；
所述氧化的时间为1～8h；
所述化合物II与氧化剂的摩尔比为1:1.2～1:1.6。
6.根据权利要求1所述原位监测镁合金动态腐蚀过程的荧光探针的应用，
其特征在于：所述荧光探针用于原位监测镁和/或镁合金动态腐蚀过程。
7.根据权利要求6所述的应用，其特征在于：所述荧光探针用于监测镁合金植入物的腐蚀过程。
8.根据权利要求1所述原位监测镁合金动态腐蚀过程的荧光探针的应用，其特征在于：所述荧光探针用于Mg(OH)2荧光成像，实现对Mg(OH)2的选择性响应。
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