[发明专利]一种真空及高低温加载的微颗粒高速冲击实验装置

权利要求书

1.一种真空及高低温加载的微颗粒高速冲击实验装置，其特征在于，包括：

真空箱；

所述真空箱内设置有用于测试并且可调节温度的试验机构，所述试验机构上设置有样品；

所述真空箱外设置有光件机构；

所述真空箱和所述试验机构以及所述光件机构均电性连接至控制系统。

2.根据权利要求1所述的真空及高低温加载的微颗粒高速冲击实验装置，其特征在于，所述光件机构包括对所述试验机构发射激光的激光发射器、对所述样品实现微颗粒冲击过程进行捕捉的超高速相机、使所述激光发射器和所述超高速相机实现同步触发的脉冲信号发生器，以及对所述试验机构进行照明的外部光源设备。

3.根据权利要求2所述的真空及高低温加载的微颗粒高速冲击实验装置，其特征在于，所述试验机构包括试验单元和固定单元。

4.根据权利要求3所述的真空及高低温加载的微颗粒高速冲击实验装置，其特征在于，

所述试验单元包括第一平台和第二平台；

所述第一平台上分别设置有供所述激光穿透并对所述激光进行聚焦的凸透镜，以及供所述激光穿过并且使所述激光产生高温高压的等离子体的发射台；

所述第二平台上设置有测温设备；

所述发射台和所述测温设备之间设置有用于放置所述样品的样品固定件，所述样品固定件内设置有加热棒，远离所述样品侧的所述样品固定件的端部连接有液氮罐。

5.根据权利要求4所述的真空及高低温加载的微颗粒高速冲击实验装置，其特征在于，所述发射台包括设置在靠近所述凸透镜侧的供所述激光穿过而不会明显吸收激光能量的约束层，远离所述凸透镜侧的所述约束层连接有使所述激光烧蚀后产生高温高压的等离子体的吸收层，远离所述约束层侧的所述吸收层连接有聚二甲基硅氧烷薄膜层。

6.根据权利要求5所述的真空及高低温加载的微颗粒高速冲击实验装置，其特征在于，所述等离子体使所述聚二甲基硅氧烷薄膜层快速膨胀并驱动粘附在所述聚二甲基硅氧烷薄膜层上的微颗粒高速冲击所述样品。

7.根据权利要求4所述的真空及高低温加载的微颗粒高速冲击实验装置，其特征在于，远离所述样品侧的所述加热棒的端部延伸至所述液氮罐内。

8.根据权利要求5所述的真空及高低温加载的微颗粒高速冲击实验装置，其特征在于，所述固定单元包括：

用于支撑并调节所述第一平台高度和方向的第一调节件，远离所述第一平台侧的所述第一调节件的端部连接有第一固定件；

用于支撑并调节所述第二平台高度和方向的第二调节件，远离所述第二平台侧的所述第二调节件的端部连接有第二固定件；

所述第一固定件和所述第二固定件上分别设置有用于固定所述液氮罐的支撑架。

9.根据权利要求6所述的真空及高低温加载的微颗粒高速冲击实验装置，其特征在于，

所述真空箱的箱壁上设置有多个透光件，所述真空箱上还连接有真空泵；

所述真空箱的顶部设置有箱盖，所述真空箱的底部设置有支撑件。

10.根据权利要求9所述的真空及高低温加载的微颗粒高速冲击实验装置，其特征在于，所述激光发射器发射的所述激光和所述外部光源设备发射的光源均通过所述透光件进入所述所述真空箱内。