[发明专利]一种硅基钙钛矿叠层太阳能电池的制备方法在审

专利信息
申请号: 202210134396.3 申请日: 2022-02-14
公开(公告)号: CN114520289A 公开(公告)日: 2022-05-20
发明(设计)人: 陈嘉;马丽敏;陆俊宇;陈月;杜哲仁;林建伟 申请(专利权)人: 泰州中来光电科技有限公司
主分类号: H01L51/48 分类号: H01L51/48;H01L51/42;H01L31/0687
代理公司: 北京金之桥知识产权代理有限公司 11137 代理人: 文智霞;朱黎光
地址: 225500 江*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 硅基钙钛矿叠层 太阳能电池 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种硅基钙钛矿叠层太阳能电池的制备方法,其特征在于,其制备步骤如下:

步骤S1,对硅基底进行制绒处理,以使其形成金字塔状的绒面结构;

步骤S2,在硅基底的其中一面的绒面结构上制备P+发射极;

步骤S3,对硅基底进行刻蚀,以使硅基底的另一面形成平面结构;

步骤S4,在硅基底的平面结构上制备N+钝化接触结构;

步骤S5,在P+发射极上制备钝化膜;

步骤S6,在N+钝化接触结构上制备第一透明导电层;

步骤S7,在第一透明导电层上依次制备叠层的电子传输层、钙钛矿层、空穴传输层和第二透明导电层;

步骤S8,在第二透明导电层和P+发射极上分别制备向外延伸的第一金属电极和第二金属电极,即得所述硅基钙钛矿叠层太阳能电池。

2.根据权利要求1所述的一种硅基钙钛矿叠层太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述步骤S4中,所述N+钝化接触结构包括依次叠设于硅基底的平面结构的隧穿氧化层和掺杂多晶硅层。

3.根据权利要求2所述的一种硅基钙钛矿叠层太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述隧穿氧化层的材质为SiO2,隧穿氧化层的厚度为5-20nm;

所述掺杂多晶硅层的厚度为20-200nm。

4.根据权利要求1所述的一种硅基钙钛矿叠层太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述步骤S6中的第一透明导电层以及步骤S7中的电子传输层、空穴传输层和第二透明导电层的制备采用磁控溅射法。

5.根据权利要求1或4所述的一种硅基钙钛矿叠层太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述第一透明导电层和第二透明导电层的材质为ITO或者AZO,第一透明导电层和第二透明导电层的厚度为10-50nm。

6.根据权利要求1或4所述的一种硅基钙钛矿叠层太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述电子传输层的材质为TiO2,电子传输层的厚度为5-25nm。

7.根据权利要求1或4所述的一种硅基钙钛矿叠层太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述空穴传输层的材质为NiO,空穴传输层的厚度为5-30nm。

8.根据权利要求1所述的一种硅基钙钛矿叠层太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述步骤S7中,所述钙钛矿层的制备过程为:将钙钛矿前驱体溶液旋涂在所述电子传输层上,以退火形成钙钛矿层。

9.根据权利要求1所述的一种硅基钙钛矿叠层太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述步骤S3中,所述刻蚀采用链式的湿法刻蚀机,刻蚀的溶液为氢氟酸溶液。

10.根据权利要求1所述的一种硅基钙钛矿叠层太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述步骤S5中,所述钝化膜为氧化硅与氮氧化硅的叠层结构。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于泰州中来光电科技有限公司,未经泰州中来光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202210134396.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top