[发明专利]基于含铜复合离子液体电沉积制备铜箔的方法有效
| 申请号： | 202210138999.0 | 申请日： | 2022-02-15 |
| 公开（公告）号： | CN114540886B | 公开（公告）日： | 2022-12-27 |
| 发明（设计）人： | 孟祥海;欧阳萍;张睿;刘植昌;刘海燕;徐春明 | 申请（专利权）人： | 中国石油大学（北京） |
| 主分类号： | C25D1/04 | 分类号： | C25D1/04;C25D3/66;C25C3/34 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 张海明;黄健 |
| 地址： | 102249*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 基于 复合 离子 液体 沉积 制备 铜箔 方法 | ||
1.一种基于含铜复合离子液体电沉积制备铜箔的方法，其特征在于，包括：以含有酸溶油和含铜复合离子液体的原料液为电解液，导电玻璃为阴极，惰性电极为阳极，进行电沉积处理，在所述导电玻璃表面形成铜箔；
所述原料液包括采用铜铝双金属复合离子液体催化碳四烷基化工艺外排的铜铝双金属复合离子液体废液；
所述酸溶油为环状共轭聚烯烃；
所述原料液中，所述酸溶油的含量范围为7.0 wt%~15.0 wt%；
所述铜铝双金属复合离子液体中，铜与铝的摩尔比为3:1~7:1；
所述铜铝双金属复合离子液体选自Et3NHCl-xAlCl3-yCuCl、 [Bmim]Cl-xAlCl3-yCuCl、[Emim]Cl-xAlCl3-yCuCl中的至少一种；
所述电沉积处理的温度为20 ℃~50 ℃；
所述电沉积处理的时间为30 min~60 min；
所述电沉积处理在恒电流或恒电压下进行，所述恒电流的电流密度为20 mA∙cm-2~80mA∙cm-2，所述恒电压的电压为-1.2 V~-3.0 V。
2.根据权利要求1所述的基于含铜复合离子液体电沉积制备铜箔的方法，其特征在于，
所述导电玻璃包括ITO导电玻璃和/或FTO导电玻璃；和/或，
所述导电玻璃的电阻为3~20Ω；和/或，
所述惰性电极包括铂片；和/或，
所述阴极与阳极的距离为0.5 cm~3.0 cm。
3.一种含铜复合离子液体废液的处理方法，其特征在于，所述废液包括采用铜铝双金属复合离子液体催化碳四烷基化工艺外排的铜铝双金属复合离子液体废液，所述处理方法包括：以所述含铜复合离子液体废液为电解液，导电玻璃为阴极，惰性电极为阳极，进行电沉积处理，在所述导电玻璃表面形成铜箔；
所述废液含有酸溶油和铜铝双金属复合离子液体，所述酸溶油为环状共轭聚烯烃；
所述废液中，所述酸溶油的含量范围为7.0 wt%~15.0 wt%；
所述铜铝双金属复合离子液体中，铜与铝的摩尔比为3:1~7:1；
所述铜铝双金属复合离子液体选自Et3NHCl-xAlCl3-yCuCl、 [Bmim]Cl-xAlCl3-yCuCl、[Emim]Cl-xAlCl3-yCuCl中的至少一种；
所述电沉积处理的温度为20 ℃~50 ℃；
所述电沉积处理的时间为30 min~60 min；
所述电沉积处理在恒电流或恒电压下进行，所述恒电流的电流密度为20 mA∙cm-2~80mA∙cm-2，所述恒电压的电压为-1.2 V~-3.0 V。
4.根据权利要求3所述的含铜复合离子液体废液的处理方法，其特征在于，所述导电玻璃包括ITO导电玻璃和/或FTO导电玻璃；和/或，
所述导电玻璃的电阻为3 Ω~20 Ω；和/或，
所述惰性电极包括铂片；和/或，
所述阴极与阳极的距离为0.5 cm~3.0 cm。
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