[发明专利]一种实现电磁诱导透明现象的纳米光学结构在审

专利信息
申请号: 202210140159.8 申请日: 2022-02-16
公开(公告)号: CN114566805A 公开(公告)日: 2022-05-31
发明(设计)人: 陈召;王艺霖;侯志灵 申请(专利权)人: 北京化工大学
主分类号: H01Q15/00 分类号: H01Q15/00
代理公司: 北京五月天专利商标代理有限公司 11294 代理人: 张瑞丰
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 实现 电磁 诱导 透明 现象 纳米 光学 结构
【权利要求书】:

1.一种实现电磁诱导透明现象的纳米光学结构,其特征在于:包括表面等离激元效应层和导模谐振层,表面等离激元效应层位于导模谐振层上方。

2.根据权利要求1所述的实现电磁诱导透明现象的纳米光学结构,其特征在于:表面等离激元效应层和导模谐振层之间设有介质衬底层。

3.根据权利要求1所述的实现电磁诱导透明现象的纳米光学结构,其特征在于:表面等离激元效应层由金属材料制成,导模谐振层由高折射率材料制成。

4.根据权利要求1所述的实现电磁诱导透明现象的纳米光学结构,其特征在于:表面等离激元效应层设有十字形镂空谐振腔、圆形镂空谐振腔或方形镂空谐振腔。

5.根据权利要求2所述的实现电磁诱导透明现象的纳米光学结构,其特征在于:表面等离激元效应层采用金属银或金制成,导模谐振层由硅制成,介质衬底层由二氧化硅制成。

6.根据权利要求5所述的实现电磁诱导透明现象的纳米光学结构,其特征在于:介质衬底层折射率n=1.45。

7.根据权利要求5所述的实现电磁诱导透明现象的纳米光学结构,其特征在于:硅的取值为[波长,折射率实部,折射率虚部]=[ 688 708 729 751 774 799 826,3.788 3.76443.7419 3.7204 3.6999 3.6801 3.6611,0.0112 0.00992 0.00865 0.00745 0.00630.00522 0.00421],其中波长的单位为nm。

8.根据权利要求1至7任何一项所述的实现电磁诱导透明现象的纳米光学结构,其特征在于:纳米光学结构是由多个单元胞结构组成的周期性结构,X方向和Y方向是周期性,Z方向为单一性,每个单元胞结构Z向由上至下由表面等离激元效应层、介质衬底层、导模谐振层组成。

9.根据权利要求8所述的实现电磁诱导透明现象的纳米光学结构,其特征在于:单元胞结构关于X轴和Y轴对称设置。

10.根据权利要求8所述的实现电磁诱导透明现象的纳米光学结构,其特征在于:入射光为线偏光+z方向正入射,线偏光波长范围为700 nm ~ 800 nm。

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