[发明专利]阵列基板和显示器有效
申请号: | 202210142848.2 | 申请日: | 2022-02-16 |
公开(公告)号: | CN114185214B | 公开(公告)日: | 2022-05-03 |
发明(设计)人: | 龙春平;先建波 | 申请(专利权)人: | 北京京东方技术开发有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G02F1/1362 | 分类号: | G02F1/1362;H01L27/12 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 焦玉恒;王小会 |
地址: | 100176 北京市大兴区*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 阵列 显示器 | ||
1.一种阵列基板,包括显示区和围绕所述显示区的周边区,所述周边区包括被配置为给数据线提供数据信号的数据选择器电路,所述数据选择器电路包括沿行方向和列方向排布的多个选择驱动晶体管,其中
每个所述选择驱动晶体管包括半导体层、源电极和漏电极,所述源电极和所述漏电极均呈条状,所述源电极和所述漏电极均沿所述列方向延伸,所述半导体层的位于所述源电极和所述漏电极之间的部分形成沟道区,所述源电极通过位于所述源电极的远离所述沟道区的一侧的多个源极过孔与所述半导体层相连,所述漏电极通过位于所述漏电极的远离所述沟道区的一侧的多个漏极过孔与所述半导体层相连,
所述源极过孔的最远离所述沟道区的边缘与所述沟道区的最小距离大于所述源电极的外侧边缘的位于两个源极过孔之间的部分与所述沟道区的最小距离,所述漏极过孔的最远离所述沟道区的边缘与所述沟道区的最小距离大于所述漏电极的外侧边缘的位于两个漏极过孔之间的部分与所述沟道区的最小距离;任意一个所述源极过孔与任意一个所述漏极过孔的中心连线与所述行方向之间形成锐角夹角。
2.根据权利要求1所述的阵列基板,其中,同一个所述选择驱动晶体管的任意一个源极过孔与其最邻近的同一个所述选择驱动晶体管的一个漏极过孔的中心连线与所述行方向之间的夹角在35度至55度之间。
3.根据权利要求1所述的阵列基板,其中,同一个选择驱动晶体管的多个源极过孔的最远离所述沟道区的点位于第一直线上,所述同一个选择驱动晶体管的多个漏极过孔的最远离所述沟道区的点位于第二直线上,所述第一直线与所述第二直线大致平行,且大致平行于所述列方向;所述源电极的位于相邻源极过孔之间的部分和所述漏电极的位于相邻漏极过孔之间的部分位于所述第一直线和所述第二直线之间,且与所述第一直线和所述第二直线无交叠。
4.根据权利要求1所述的阵列基板,其中,所述数据选择器电路还包括位于相邻的两个所述选择驱动晶体管之间的走线,所述走线沿所述列方向曲折延伸,相邻的两个所述选择驱动晶体管分别为第一选择驱动晶体管和第二选择驱动晶体管,所述走线包括在所述行方向上距离所述第一选择驱动晶体管的沟道区距离最近的多个第一部,所述走线包括在所述行方向上距离所述第二选择驱动晶体管的沟道区距离最近的多个第二部,在所述列方向上,所述多个第一部和所述多个第二部交替排列,所述第一选择驱动晶体管的多个漏极过孔和所述第二选择驱动晶体管的多个源极过孔位于所述第一选择驱动晶体管的沟道区和所述第二选择驱动晶体管的沟道区之间,
所述第一选择驱动晶体管的多个漏极过孔与所述多个第二部一一对应,且每个所述漏极过孔与对应的所述第二部的中心连线与所述行方向大致平行,
所述第二选择驱动晶体管的多个源极过孔与所述多个第一部一一对应,且每个所述源极过孔与对应的所述第一部的中心连线与所述行方向大致平行。
5.根据权利要求4所述的阵列基板,其中,所述走线包括与所述列方向基本平行且沿所述列方向间隔排列的多个垂直直线段,以及连接相邻垂直直线段的与所述行方向呈锐角的倾斜直线段,每个所述垂直直线段的至少一部分为所述第一部或所述第二部。
6.根据权利要求4或5所述的阵列基板,其中,所述走线的宽度、所述选择驱动晶体管的源电极的位于相邻源极过孔之间的部分的宽度、所述选择驱动晶体管的漏电极的位于相邻漏极过孔之间的部分的宽度、所述源极过孔的直径、以及所述漏极过孔的直径中的任一个大致等于尺寸d,1.5微米≤d≤4微米。
7.根据权利要求6所述的阵列基板,其中,所述源极过孔和所述漏极过孔与所述走线的最小距离分别大致等于尺寸d。
8.根据权利要求5所述的阵列基板,其中,所述垂直直线段与所述倾斜直线段的延伸方向之间的夹角在35度至55度之间,且小于或等于同一个所述选择驱动晶体管的任意一个源极过孔与其最邻近的同一个所述选择驱动晶体管的一个漏极过孔的中心连线与所述行方向之间的夹角。
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