[发明专利]一种外延炉晶片冷却系统、方法、电子设备及存储介质

权利要求书

1.一种外延炉晶片冷却系统，用于冷却晶片（6），包括预抽真空腔（1）和供气装置（2），所述供气装置（2）安装在所述预抽真空腔（1）上，所述供气装置（2）用于释放吹扫气体，其特征在于，所述晶片（6）冷却系统还包括：

冷却装置（3），设置在所述预抽真空腔（1）内，用于冷却所述吹扫气体；

第一测温装置（4），用于测量所述晶片（6）的温度；

控制器（5），用于控制所述供气装置（2）释放所述吹扫气体以冷却所述晶片（6），还用于在所述晶片（6）的温度小于或等于预设的第一阈值时，控制所述冷却装置（3）冷却所述吹扫气体。

2.根据权利要求1所述的外延炉晶片冷却系统，其特征在于，所述控制器（5）还用于在所述晶片（6）的温度小于预设的第二阈值时，控制所述冷却装置（3）停止冷却所述吹扫气体。

3.根据权利要求1所述的外延炉晶片冷却系统，其特征在于，所述冷却装置（3）包括：

若干液冷板（31），设置在所述供气装置（2）和所述晶片（6）之间，用于导流所述吹扫气体；

冷却液提供装置（32），与所述液冷板（31）连接，用于为所述液冷板（31）循环提供冷却液以带走所述液冷板（31）的热量。

4.根据权利要求3所述的外延炉晶片冷却系统，其特征在于，所述液冷板（31）上设有多个通孔（311），当所述液冷板（31）的数量为多个时，相邻的所述液冷板（31）的所述通孔（311）为相互错开设置。

5.根据权利要求3所述的外延炉晶片冷却系统，其特征在于，所述冷却液提供装置（32）上设置有流量控制阀（7），所述控制器（5）还用于控制所述流量控制阀（7）改变所述冷却液提供装置（32）的冷却液流量，以使所述液冷板（31）内冷却液的流量随所述晶片（6）的温度下降而增大。

6.根据权利要求5所述的外延炉晶片冷却系统，其特征在于，所述外延炉晶片冷却系统还包括罩体（8）和第二测温装置，所述液冷板（31）设置在罩体（8）内，所述第二测温装置用于测量所述罩体（8）底端的温度，所述控制器（5）还用于根据所述晶片（6）的温度和所述罩体（8）底端的温度控制所述流量控制阀（7）改变所述冷却液提供装置（32）为所述液冷板（31）循环提供的所述冷却液的流量。

7.一种外延炉晶片冷却方法，用于冷却晶片（6），其特征在于，应用在外延炉晶片冷却系统中，所述晶片（6）冷却系统包括预抽真空腔（1）、供气装置（2）、冷却装置（3）和第一测温装置（4），所述供气装置（2）安装在所述预抽真空腔（1）上，所述供气装置（2）用于释放吹扫气体，所述冷却装置（3）与所述供气装置（2）连接，所述冷却装置（3）用于冷却所述吹扫气体，所述第一测温装置（4）用于测量所述晶片（6）的温度，所述外延炉晶片冷却方法包括以下步骤：

控制所述供气装置（2）释放所述吹扫气体以冷却所述晶片（6）；

在所述晶片（6）的温度小于或等于预设的第一阈值时，控制所述冷却装置（3）冷却所述吹扫气体。

8.根据权利要求7所述的外延炉晶片冷却方法，其特征在于，所述外延炉晶片冷却方法还包括步骤：

在所述晶片（6）的温度小于预设的第二阈值时，控制所述冷却装置（3）停止冷却所述吹扫气体。

9.一种电子设备，其特征在于，包括处理器以及存储器，所述存储器存储有计算机可读取指令，当所述计算机可读取指令由所述处理器执行时，运行如权利要求7-8任一项所述方法中的步骤。

10.一种存储介质，其上存储有计算机程序，其特征在于，所述计算机程序被处理器执行时运行如权利要求7-8任一项所述方法中的步骤。