[发明专利]一种碲化镉太阳电池的梯度吸收层硒源层的制备方法及太阳电池在审

专利信息
申请号: 202210150537.0 申请日: 2022-02-18
公开(公告)号: CN114530511A 公开(公告)日: 2022-05-24
发明(设计)人: 沈凯;麦耀华;刘娇;傅干华;蒋猛;唐茜;周逸良 申请(专利权)人: 暨南大学
主分类号: H01L31/0296 分类号: H01L31/0296;H01L31/0445;H01L31/18
代理公司: 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 代理人: 雷月华
地址: 510632 广东*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 碲化镉 太阳电池 梯度 吸收 层硒源层 制备 方法
【说明书】:

发明公开了一种碲化镉太阳电池的梯度吸收层硒源层的制备方法及太阳电池。所述硒源层包括CdTe1‑xSex或CdSe,所述制备方法为三步法:首先,沉积硒源预制层;其次,在硒源预制层表面沉积金属氯化物;再次,对沉积有金属氯化物的硒源预制层进行气氛热处理。本发明通过分步制备硒源预制层、金属氯化物涂层、和含氧环境下的热处理过程,显著改善了硒源层制备的可控性,获得了高质量的硒源层。本发明的低温沉积硒源预制层大大拓宽了制备温度工艺窗口,金属氯化物环境下的热处理过程大大提高了硒源层的结晶性,获得了大晶粒紧密排列的薄膜,含氧环境下热处理形成了适度氧化的硒源层,改善了硒源层电学性质。

技术领域

本发明属于光伏新能源材料与器件领域,具体涉及一种碲化镉太阳电池的梯度吸收层硒源层的制备方法及太阳电池。

背景技术

CdTe太阳电池是最成功的产业化薄膜光伏技术。碲化镉作为带隙接近薄膜太阳电池理论最佳带隙的直接带隙材料之一,因其较高的光吸收系数,稳定的材料性质,以及较高的转换效率和较低的制作成本,极具研究价值和产业化前景。

相比传统CdTe太阳电池,新结构高效率CdTe太阳电池采用基于CdTe1-xSex梯度带隙结构取代单一CdTe为吸收层,在结构设计和材料选择上实现了跨越式进步,器件在短波和长波段均实现了更好的光谱响应。同时,CdTe1-xSex所具备的其他优良的材料性质,在缺陷钝化、少子寿命、载流子输运等方面都可以起到积极作用。因此,在CdTe吸收层中引入Se的硒源层制备工艺和相应的高质量CdTe1-xSex基梯度吸收层对CdTe太阳电池性能具有重要影响。

发明内容

为解决现有技术的缺点和不足之处,本发明提供了一种碲化镉太阳电池的梯度吸收层硒源层的制备方法,显著改善了硒源层制备的可控性,促进CdTe1-xSex梯度吸收层的形成从而提高器件性能。

本发明还提供了一种碲化镉太阳电池。

本发明的目的通过下述技术方案实现:

一种碲化镉太阳电池的梯度吸收层硒源层的制备方法,所述制备方法为三步法:首先,沉积硒源预制层;其次,在硒源预制层表面沉积金属氯化物;再次,对沉积有金属氯化物的硒源预制层进行气氛热处理。

所述硒源预制层的化学组分为CdTe1-xSex(镉碲硒,0x1)或CdSe(硒化镉),优选为CdSe。硒源层的化学组分和结晶性对后续CdTe薄膜生长和组分扩散形成CdTe1-xSex基梯度吸收层都具有基础性影响。

所述硒源预制层沉积方法包括热蒸发法、近空间升华法、磁控溅射法、气相输运法、分子束外延法、热壁沉积法、电子束沉积法、电化学沉积法或化学水浴法等;硒源预制层沉积温度:室温~200℃,优选室温沉积;硒源预制层厚度为50~150nm。

所述在硒源预制层表面沉积金属氯化物层,金属氯化物包括CdCl2和/或MgCl2;沉积方法为热蒸发法、近空间升华法、磁控溅射法、气相输运法、化学气相法、电化学沉积法、溶液滴涂法或溶液提拉法等;金属氯化物层厚度为1~100nm。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于暨南大学,未经暨南大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202210150537.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top