[发明专利]一种光刻用光纤束以及光刻机

权利要求书

1.一种光刻用光纤束，其能够至少接收波长不同的曝光高斯光束和退激发高斯光束，其至少包括一根光刻光纤，所述光刻光纤包括用于传输光束的光纤芯，在所述光纤芯的外侧包围设置光纤包层，其特征在于，在所述光纤芯的入射端处设置螺旋相位结构，所述螺旋相位结构用于使得所述退激发高斯光束转换形成甜甜圈状的结构光光束，在所述光纤芯的出射端的外侧设置透镜结构。

2.根据权利要求1所述的光刻用光纤束，其特征在于，所述曝光高斯光束是紫外光，所述退激发高斯光束是激光光束。

3.根据权利要求1所述的光刻用光纤束，其特征在于，所述光纤芯采用掺杂石英或CaF₂或掺杂的CaF₂制成，所述光纤包层采用石英或CaF₂材料制成。

4.根据权利要求1所述的光刻用光纤束，其特征在于，所述光纤芯的直径在1um到10um之间，所述光纤包层的外径在15um-100um之间，所述光纤包层和所述光纤芯的光折射系数具有一定差别，所述差别在0.01到0.2之间。

5.根据权利要求1所述的光刻用光纤束，其特征在于，所述螺旋相位结构采用螺旋相位板，在所述光纤芯的轴线上沿所述光纤包层的端面的天体角方向设置具有不同刻蚀深度的所述螺旋相位板。

6.根据权利要求1所述的光刻用光纤束，其特征在于，所述螺旋相位结构采用满足螺旋相位要求的并且在曝光波长上实现聚焦的超表面结构。

7.根据权利要求1所述的光刻用光纤束，其特征在于，所述透镜结构具有弧形外凸的结构，在所述透镜结构的外侧具有焦平面，所述透镜结构用于使所述曝光高斯光束在所述焦平面上形成高度聚焦的高斯束斑。

8.根据权利要求7所述的光刻用光纤束，其特征在于，所述透镜结构是在所述光纤芯的端面上形成的光纤透镜或者是在所述光纤包层的端面上形成的超表面透镜。

9.根据权利要求1所述的光刻用光纤束，其特征在于，当所述光刻用光纤束包括多根所述光刻光纤的情况下，所有所述光刻光纤中的所述螺旋相位结构和所述透镜结构分别构成阵列。

10.一种光纤光刻机，其采用权利要求1-9中任一项权利要求所述的光纤光刻束。