[发明专利]一种高透明度的二氧化硅制备方法及其生产装置

权利要求书

1.一种高透明度的二氧化硅制备方法，其特征在于：包括以下步骤：

S1：配制硅酸钠溶液：将固体硅酸钠与去离子水加入第一反应釜内，恒压、恒温搅拌30min-50min，得到稀硅酸钠溶液；

S2：配制晶种：将定量稀硅酸钠溶液加入第二反应釜内，并向第二反应釜内边搅拌边滴加硫酸溶液至混合液的PH达到7-8，然后密封恒温保存2h，得到晶种；

S3：浆液制备：在第三反应釜内加入温水，然后在恒温环境下滴加定量晶种的同时滴加稀硅酸钠溶液，至晶种滴加完毕，控制过程PH为8-10，同时进行搅拌30min-50min，得到第一溶液；保持恒温静置20min后向第一溶液内添加表面活性剂，并搅拌20min，且表面活性剂与晶种的体积比为0.01:1，然后加入硫酸溶液至PH为5-6，并搅拌30min，得到桨液；

S4：二氧化硅获得：将浆液自然冷却至室温，压滤、破碎、洗涤后进行喷雾干燥，获得高透明度二氧化硅。

2.根据权利要求1所述的一种高透明度的二氧化硅制备方法及其生产装置，其特征在于：所述表面活性剂为脂肪醇聚氧乙烯醚、γ-氯丙基三甲氧基硅烷和聚氧乙烯失水山梨醇脂肪酸酯种一种或多种混合物。

3.根据权利要求1所述的一种高透明度的二氧化硅制备方法及其生产装置，其特征在于：所述步骤S1中控制恒压压力为150-200cm汞柱，恒温温度为40-60℃。

4.根据权利要求1所述的一种高透明度的二氧化硅制备方法及其生产装置，其特征在于：所述步骤S3中温水的温度为60-70℃，且控制恒温温度为60-70℃。

5.一种用于权利要求1-4任意一项所述的高透明度的二氧化硅的生产装置，其特征在于：所述生产装置包括第一反应釜(1)、第二反应釜(2)、第三反应釜(3)、压滤机(4)、破碎机(5)、超声波清洗机(6)和喷雾干燥机(7)；

所述第一反应釜(1)用于配制稀硅酸钠溶液；

所述第二反应釜(2)用于配制晶种；

所述第三反应釜(3)用于配制浆液，并使桨液静置沉淀；

所述压滤机(4)用于对静置沉淀后的桨液依次进行压滤，得到固体二氧化硅；

所述破碎机(5)用于对固体二氧化硅进行破碎，得到颗粒状二氧化硅所述超声波清洗机(6)用于对二氧化硅颗粒进行超声波清洗；

所述喷雾干燥机(7)用于对颗粒状二氧化硅进行喷雾干燥处理，得到干燥后的成品二氧化硅。

6.根据权利要求5所述的一种高透明度的二氧化硅的生产装置，其特征在于：还包括稀硅酸钠溶液储存罐(8)和晶种储存罐(9)，且稀硅酸钠溶液储存罐(8)和晶种储存罐(9)均为恒温、恒压储存罐；

所述稀硅酸钠溶液储存罐(8)用于储存配制好的稀硅酸钠溶液；

所述晶种储存罐(9)用于储存配制好的晶种。