[发明专利]一种哑光表面的蚀刻装饰陶瓷砖及其制备方法

说明书

本发明公开一种哑光表面的蚀刻装饰陶瓷砖及其制备方法，利用效果网通过丝网印花在陶瓷砖表面印刷蒙砂釉以对釉面定点腐蚀形成蚀刻层，丝网印花蒙砂釉后的陶瓷砖静置12～30秒，丝网印花蒙砂釉的部位从正面看不影响陶瓷砖釉面的喷墨打印图案且从侧光看呈现为哑光釉面；其中，蒙砂釉的原料组成包括：以质量百分比计，蒙砂液20～25%，MJ‑880印油45～55%，MT‑108印油15～25%，消泡润爽剂4～5%，防粘网剂8～10%。

技术领域

本发明涉及一种哑光表面的蚀刻装饰陶瓷砖及其制备方法，属于陶瓷砖生产制造技术领域。

背景技术

随着生活质量的改善，消费者对陶瓷装饰提出更高要求，于是催生出新材料和新工艺的诞生。近年陶瓷行业的研发人员不断探索新工艺，以期获得装饰效果丰富的陶瓷砖产品。但是当前工艺改进主要集中在陶瓷烧成前的阶段。如何从冷加工釉面处理的层次出发，获得一种哑光表面的蚀刻装饰陶瓷砖是本发明亟待突破的技术问题。

现有市场上的抛釉砖包括亮光抛釉砖和柔抛砖。这两种抛釉砖产品均是通过釉料配方和釉料工艺的调整来获得不同花色和光泽的釉面装饰。中国专利CN102491786A公开一种下陷印刷釉，由如下重量百分比的组分组成：低温溶剂40-65％，石英20-40％，五氧化二钒15-20％。所述下陷釉可以当作普通印刷釉掺合在印花花釉中印刷于未烧面釉上，而不影响花釉发色。上述下陷印刷釉可以根据掺合量来控制下陷的深浅程度。然而，所述下陷釉的配方含有大量铅丹和五氧化二钒等强氧化剂，成本高，有剧毒，同时下陷釉的下陷深浅会影响设计图案的呈现，无法展现出大理石自然形成的腐蚀效果。

发明内容

针对上述问题，本发明提供一种哑光表面的蚀刻装饰陶瓷砖及其制备方法，打破常规抛釉砖的釉面装饰效果，通过对抛光后的釉面进行蚀刻，提升釉面的装饰效果，增加产品附加值。

第一方面，本发明提供一种哑光表面的蚀刻装饰陶瓷砖的制备方法。所述方法利用效果网通过丝网印花在陶瓷砖表面印刷蒙砂釉以对釉面定点腐蚀形成蚀刻层，丝网印花蒙砂釉后的陶瓷砖静置12～30秒，丝网印花蒙砂釉的部位从正面看不影响陶瓷砖釉面的喷墨打印图案且从侧光看呈现为哑光釉面；其中，蒙砂釉的原料组成包括：以质量百分比计，蒙砂液20～25％，MJ-880印油45～55％，MT-108印油15～25％，消泡润爽剂4～5％，防粘网剂8～10％。

较佳地，蒙砂液的组成包括：以质量百分比计，氟化氢铵15～30％，氟化钙3～6％，氟硼酸钠3～6％，氟硼酸钾3～6％，氟硼酸镁2～4％，氟化铵3～8％，草酸1～3％，硫酸钡2～5％，氟硅酸钠1.5～3％，淀粉3～5％，盐酸20～35％。

较佳地，所述蒙砂釉的粘度为2000～3000MPa·s。

较佳地，丝网印花过程中保持效果网与陶瓷砖表面的距离为5～10mm。

较佳地，丝网印花蒙砂釉部位的光泽度为7～10度。

较佳地，丝网印花蒙砂釉形成的蚀刻层厚度为60～200nm。

较佳地，蒙砂液和MJ-880印油的质量比是1:1.8～1:2.2。

较佳地，MJ-880印油和MT-108印油的质量比是2.3:1～2.8:1。

较佳地，效果网的目数为120～160目。

本发明所述方法腐蚀后的釉面表现为低光泽度，同时因发生化学反应而变得较为粗糙，正面看釉面不影响原本的设计图案，侧光看又能表现出特殊的哑光及磨砂釉面。

第二方面，本发明还提供了上述任一项所述的制备方法获得的哑光表面的蚀刻装饰陶瓷砖。

附图说明

图1是丝网印花蒙砂釉之前的釉面效果图。

图2是丝网印花蒙砂釉之后的釉面效果图。

具体实施方式