[发明专利]用于形成包含钒和氮的层的方法和系统在审

专利信息
申请号: 202210176304.8 申请日: 2022-02-25
公开(公告)号: CN114990524A 公开(公告)日: 2022-09-02
发明(设计)人: G.A.沃尼;R-J.张;谢琦;T.布兰夸特;E.希罗 申请(专利权)人: ASMIP私人控股有限公司
主分类号: C23C16/34 分类号: C23C16/34;C23C16/44;C23C16/455;H01L29/423;H01L21/336
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 焦玉恒
地址: 荷兰阿*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 形成 包含 方法 系统
【权利要求书】:

1.一种用于在衬底上形成包含金属氮化物的层的方法,该方法包括:

-在反应室中提供衬底;

-在衬底上沉积金属氧化物;以及

-将衬底暴露于含氮反应物,从而将金属氧化物转化为金属氮化物。

2.根据权利要求1所述的方法,其中,在所述衬底上沉积金属氧化物包括沉积循环,所述沉积循环包括金属前体脉冲和氧反应物脉冲,其中,金属前体脉冲包括将衬底暴露于金属前体,并且其中,氧反应物脉冲包括将衬底暴露于氧反应物。

3.根据权利要求2所述的方法,其中,所述氧反应物选自O2,H2O和H2O2

4.根据权利要求1至3中任一项所述的方法,其中,所述金属氮化物包括过渡金属氮化物,并且其中,所述金属氧化物包括过渡金属氧化物。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的方法,其中,所述金属氮化物包括氮化钒,并且其中,所述金属氧化物包括氧化钒。

6.根据权利要求2至5中任一项所述的方法,其中,所述金属前体包括过渡金属前体。

7.根据权利要求2至6中任一项所述的方法,其中,所述金属前体选自卤化物、卤氧化物和有机金属化合物。

8.根据权利要求6或7所述的方法,其中,所述金属前体包括钒前体。

9.根据权利要求8所述的方法,其中,所述钒前体包括卤化钒。

10.根据权利要求9所述的方法,其中,所述卤化钒包括氯化钒。

11.根据权利要求8所述的方法,其中,所述金属前体包括β-二酮化钒。

12.根据权利要求2至11中任一项所述的方法,包括多个沉积循环。

13.根据权利要求12所述的方法,其中,后续沉积循环由沉积循环间吹扫分开。

14.根据权利要求2至13中任一项所述的方法,其中,所述金属前体脉冲和所述氧反应物脉冲由沉积循环内吹扫分开。

15.根据权利要求1至14中任一项所述的方法,其中,在所述衬底上沉积所述金属氧化物和将衬底暴露于含氮反应物由后金属氧化物沉积吹扫分开。

16.根据权利要求1至15中任一项所述的方法,包括多个超级循环,超级循环包括在所述衬底上沉积所述金属氧化物,并将衬底暴露于含氮反应物。

17.根据权利要求16所述的方法,其中,后续超级循环由超级循环间吹扫分开。

18.根据权利要求1至17中任一项所述的方法,其中,将所述衬底暴露于含氮反应物包括向反应室提供氮反应物,所述氮反应物选自NH3,N2H2和N2

19.根据权利要求1至17中任一项所述的方法,其中,将所述衬底暴露于含氮反应物包括在反应室中产生含氮等离子体,其中,在反应室中产生含氮等离子体包括向反应室提供含氮等离子体气体,并且其中,含氮等离子体气体包括选自NH3,N2和N2H2的至少一种含氮气体。

20.根据权利要求2至19中任一项所述的方法,其中,所述氧反应物包括H2O。

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