[发明专利]涂布棒装置及培养皿涂布方法在审
申请号: | 202210177019.8 | 申请日: | 2022-02-25 |
公开(公告)号: | CN114657055A | 公开(公告)日: | 2022-06-24 |
发明(设计)人: | 刘家朋 | 申请(专利权)人: | 上海汇像信息技术有限公司 |
主分类号: | C12M1/26 | 分类号: | C12M1/26;C12M1/36;C12Q3/00 |
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地址: | 200241 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 涂布棒 装置 培养皿 方法 | ||
本发明涉及实验室自动化技术领域,公开了一种涂布棒装置,包括涂布棒和旋转驱动部件,所述涂布棒安装在旋转驱动部件上,由旋转驱动部件驱动涂布棒旋转,所述涂布棒包括圆盘形主体,在主体下表面设置十字形凸棱,十字形凸棱的中心交叉位置中空,十字形凸棱的个外端头与主体边缘离开一定距离。本发明还公开了涂布方法。本发明实现培养基涂布过程中适应性强,涂抹均匀。
技术领域
本发明涉及实验室自动化技术领域,尤其涉及一种涂布棒装置及培养皿涂布方法。
背景技术
通过培养皿进行微生物培养时,在对培养基上的样本进行涂布操作,在自动化微生物装置中,通过涂布棒在培养基表面进行往复运动,实现将样本均匀地分布于培养基上。
申请人早些时候申请的专利:微生物检测培养皿涂布装置及涂布控制方法(申请号:CN202010138005.6),其公开的涂布棒为L型结构,L型结构存在以下问题:
1、L型结构不能适用不同尺寸的培养皿,当培养皿尺寸变化时,需要更换不同对应尺寸的L型涂布结构;2、当培养基表面凹凸不平起伏时,L型接触为一条线,存在涂抹不均匀、漏涂的问题;3.、当培养基表面凹凸不平起伏时,L型涂布结构为了贴合培养基表面涂抹均匀,下压力会增大,很容易造成培养基表面划破;4、L型涂布结构由于移动装置与培养皿的联动协同控制效果差,很容易引起涂抹超出范围,涂抹移动装置移动过快、过慢造成涂抹不均匀、漏涂的问题。
发明内容
本发明的目的是为了解决上述问题,提供一种涂布棒装置及培养皿涂布方法,实现培养基涂布过程中适应性强,涂抹均匀。
本发明采取的技术方案是:
一种涂布棒装置,其特征是,包括涂布棒和旋转驱动部件,所述涂布棒安装在旋转驱动部件上,由旋转驱动部件驱动涂布棒旋转,所述涂布棒包括圆盘形主体,在主体下表面设置十字形凸棱,十字形凸棱的中心交叉位置中空,十字形凸棱的个外端头与主体边缘离开一定距离。
进一步,所述涂布棒上安装配重块,所述配重块安装于滑动杆上,所述滑动杆连接至旋转驱动部件上,所述配重块在所述滑动杆上上下自由滑动,所述旋转驱动部件驱动配重块旋转动作。
进一步,所述旋转驱动部件连接至螺旋驱动部件,所述螺旋驱动部件驱动旋转驱动部件做螺旋运动。
进一步,待涂布的培养皿内径为所述主体的直径的整数倍。
一种培养皿涂布方法,其特征是,所述旋转驱动部件驱动涂布棒旋转的同时,螺旋驱动部件驱动涂布棒在培养皿的培养基上进行螺旋运动。
进一步,所述螺旋运动是从培养皿的中心点开始向外形成的。
本发明的有益效果是:
(1)采用圆形中空十字架设计结构,因培养皿为圆形结构,新设计同样适用圆形并与培养皿保持一定比例以满足不同培养皿尺寸的变化;
(2)中空结构可解决涂抹培养基时中心接触面过大引起涂抹不均匀问题;
(3)十字架结构可完全避免由于L型的一条线造成漏涂现象;
(4)自适应起伏装置通过监控培养基最大承受压力设计适当重量的配重机构,采用自然重力的方式自适应培养基起伏,保障能够完全涂抹到位置;
(5)新涂布结构采用螺旋控制方式,以培养皿中心点为起点,进行螺旋运动控制;每次螺旋运动量可设置十字架移动距离,避免了涂抹超限;移动过快、过慢造成速度与位置的不匹配,引起涂抹不均匀、漏涂的问题。
附图说明
附图1是涂布棒本体下表面结构图;
附图2是涂布时涂布棒在培养皿中位置示意图;
附图3自适应起伏装置结构示意图;
附图4是涂布时涂布棒运动路径示意图。
具体实施方式
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