[发明专利]一种用于EUV光源的液滴锡靶供应装置

权利要求书

1.一种用于EUV光源的液滴锡靶供应装置，其特征在于，包括：连接在一起的第一端盖板、第二端盖板和置于二者内部的声学产生及传播装置，所述第一端盖板上集成有存储液态锡的腔室，所述腔室的输出端设有小孔，所述第一端盖板的输出端连接有小孔盖板，所述存储液态锡的腔室连接有供料管，所述小孔盖板上设有供锡液滴流流动的小孔，第一端盖板上还连接有集成加压装置和温度调节装置，所述集成加压装置用于向存储液态锡的腔室中加压，所述温度调节装置用于调节第一端盖板的温度，所述声学产生及传播装置的输出端与所述存储液态锡的腔室相连，其用于使小孔处的喷射流发生破裂，形成稳定的锡液滴靶，所述声学产生及传播装置配套有主动制冷装置。

2.根据权利要求1所述的用于EUV光源的液滴锡靶供应装置，其特征在于，所述温度调节装置包括加热装置和温度探头，所述加热装置安装在第一端盖板上，通过读取温度探头处温度，反馈调节加热装置的输出状态。

3.根据权利要求1所述的用于EUV光源的液滴锡靶供应装置，其特征在于，所述声学产生及传播装置的输出端通过特制件与第一端盖板上的存储液态锡的腔室相连，所述特制件包括隔热块和薄膜，所述隔热块一侧为声学产生及传播装置的输出端，另一侧将薄膜压靠在第一端盖板上，声学产生及传播装置产生的声学振动传到特制件薄膜上，从而驱动锡滴产生装置产生稳定的锡滴。

4.根据权利要求1所述的用于EUV光源的液滴锡靶供应装置，其特征在于，所述第二端盖板上集成有气压平衡管路，所述气压平衡管路用于平衡薄膜两侧的压力。

5.根据权利要求1所述的用于EUV光源的液滴锡靶供应装置，其特征在于，所述声学产生及传播装置包括压电陶瓷、压电陶瓷底座以及蝶式簧片，所述压电陶瓷底座可拆卸地安装在第一端盖板上，所述压电陶瓷底座的端部通过蝶式簧片连接在第二端盖板上。

6.根据权利要求5所述的用于EUV光源的液滴锡靶供应装置，其特征在于，所述压电陶瓷底座的外部设有若干凸块，所述第一端盖板的内部设有匹配凸块的第一端盖板预留滑轨。

7.根据权利要求1所述的用于EUV光源的液滴锡靶供应装置，其特征在于，主动制冷装置和第二端盖板之间接触配合，在接触面涂覆导热硅脂。

8.根据权利要求1所述的用于EUV光源的液滴锡靶供应装置，其特征在于，所述小孔的输入端之前设有过滤网。

9.根据权利要求1所述的用于EUV光源的液滴锡靶供应装置，其特征在于，所述小孔的输入端之前设有收口器，第一端盖板在远离小孔方向逐渐为开口设计。