[发明专利]一种炫彩制品镭射加工工艺、炫彩制品及电子产品

说明书

本申请提供一种炫彩制品镭射加工工艺、炫彩制品及电子产品，该炫彩制品镭射加工工艺，使用波长为230‑400nm的紫外纳秒激光对待加工制品表面进行激光镭射，使待加工制品吸收等量激光光能量，在待加工制品表面生成一层亮面反光氧化层，满足光的反射/折射条件，产生炫彩色，达到炫彩效果。相较于现有技术中的镀膜等颜色制备工艺，激光镭射更加具有市场前景，激光镭射具有工艺简单、可操作性强、加工时间短、无耗材、节约环保、减少成本、提高产能等优点，且制作出的图层永久不褪色、图案精准、炫彩效果好。

技术领域

本申请涉及激光镭射技术领域，尤其涉及一种炫彩制品镭射加工工艺、炫彩制品及电子产品。

背景技术

陶瓷材料表面颜色处理工艺，基本上使用真空镀膜+丝印等方法。使用真空镀膜+丝印，颜色饱和度、亮度、均匀性、炫目功能均不能准确掌控，需要专业人员操作，可控性低，效率低，时间周期长，耗材大。

发明内容

本申请的目的在于提供一种炫彩制品镭射加工工艺，通过激光镭射对待加工材料表面进行颜色处理，解决现有颜色处理工艺存在的问题。

为实现以上目的，本申请提供一种炫彩制品镭射加工工艺，包括：

使用激光器对待加工制品表面进行激光镭射雕刻得到预先设计的图案，所述激光为紫外纳秒激光，所述激光的波长为230-400nm。

优选地，所述激光的能量占空比在60％～80％；

优选地，所述激光的频率范围在20Khz～40Khz；

优选地，所述激光的填充间距为0.006mm～0.014mm。

优选地，所述激光的填充角度不为0度或180度；

优选地，所述填充角度为30～60度；

优选地，所述填充角度为45度。

优选地，所述激光镭射雕刻包括两次制程，通过第一次制程在所述待加工表面形成第一图层，通过第二次制程在所述第一图层上形成第二图层。

优选地，制作所述第一图层采用激光的能量占空比在70％～80％，制作所述第二图层采用激光的能量占空比在60％～70％左右；

优选地，制作所述第一图层采用激光的频率范围在30Khz～40Khz，制作所述第二图层采用激光的频率范围在20Khz～30Khz。

优选地，制作所述第一图层采用激光的速度为100～200mm/s，制作所述第二图层采用激光的速度为700～1000mm/s。

优选地，所述第一图层和所述第二图层的填充次数分别为1～2次。

优选地，所述激光器的电流为35A～42A；

优选地，所述激光器的电流为38.5A。

优选地，所述激光的焦点聚焦在所述陶瓷材料表面；

优选地，所述激光器的焦距为31mm～33mm。

本申请还提供一种炫彩制品，由上述的炫彩制品镭射加工工艺加工得到。

本申请还提供一种电子产品，包括上述的炫彩制品。

与现有技术相比，本申请的有益效果包括：