[发明专利]一种易于维护的EUV光源液滴锡靶供应装置

权利要求书

1.一种易于维护的EUV光源液滴锡靶供应装置，其特征在于，包括阀体和与所述阀体输出端相连的声学产生及传播装置，所述阀体的两端分别设有第一端盖板和第二端盖板，所述阀体内部作为靶材腔室，所述第一端盖板上设有与所述靶材腔室相连的小孔，所述声学产生及传播装置的输入端连接靶材腔室，所述阀体的外部可拆卸地套接有温度调节装置，所述第二端盖板上设有连接阀体内部的加压管路，所述加压管路用于向靶材腔室加压，得到连续的锡喷射流，所述温度调节装置用于为阀体加热温度，所述声学产生及传播装置用于将经过其的连续的锡喷射流变为稳定的锡液滴流，所述声学产生及传播装置配套有用于为其制冷温的主动制冷装置。

2.根据权利要求1所述的易于维护的EUV光源液滴锡靶供应装置，其特征在于，所述温度调节装置包括精确加热层，所述精确加热层用于提供阀体内部的精确控温，确保锡液体一直处于熔化状态，所述温度调节装置包括夹层壳体、加热装置和温度探头，所述加热装置安装在夹层壳体上，通过读取温度探头处温度，反馈调节加热装置的输出状态。

3.根据权利要求2所述的易于维护的EUV光源液滴锡靶供应装置，其特征在于，所述阀体的外部设有若干阀体插槽，所述精确加热夹层的夹层壳体的内部设有匹配阀体插槽的凸块。

4.根据权利要求2或3所述的易于维护的EUV光源液滴锡靶供应装置，其特征在于，所述阀体和夹层壳体采用不同材质，加热时，精确加热夹层膨胀率大于阀体的膨胀率。

5.根据权利要求1所述的易于维护的EUV光源液滴锡靶供应装置，其特征在于，所述声学产生及传播装置包括压电陶瓷，所述压电陶瓷的两端分别连接有压电陶瓷第一端压板和压电陶瓷第二端压板，压电陶瓷第一端压板将压电陶瓷压紧，并且之间加缓冲件进行声音隔断，所述缓冲件用于避免压电陶瓷的声学激励信号传播到压电陶瓷第二端压板方向，所述压电陶瓷第二端压板和第一端盖板之间还安装有隔热板和传声滚珠。

6.根据权利要求1所述的易于维护的EUV光源液滴锡靶供应装置，其特征在于，所述主动制冷装置和第一端盖板之间的设有等径向间距的隔热滚珠。

7.根据权利要求1或6所述的易于维护的EUV光源液滴锡靶供应装置，其特征在于，所述主动制冷装置包括制冷片和/或液冷管路，主动制冷装置位于阀体外部。

8.根据权利要求1所述的易于维护的EUV光源液滴锡靶供应装置，其特征在于，易于维护的EUV光源液滴锡靶供应装置工作状态下主体部分处于真空环境中，第一端盖板、第二端盖板以及阀体均具有预设厚度，至少可以承受小孔锡液喷射状态下的工作压力。

9.根据权利要求1所述的易于维护的EUV光源液滴锡靶供应装置，其特征在于，阀体和小孔之间设有过滤网。

10.根据权利要求1所述的易于维护的EUV光源液滴锡靶供应装置，其特征在于，所述阀体和小孔之间设有收口器，所述阀体内部形状靠近第二端盖板侧向靠近第一端盖板侧平滑过渡。