[发明专利]一种氮化铝日盲光电探测器及其制备方法

权利要求书

1.一种氮化铝日盲光电探测器的制备方法，其步骤如下：

(1)使用丙酮、乙醇、去离子水依次超声清洗c面蓝宝石衬底，然后用高纯氮气吹干；

(2)在步骤(1)获得的c面蓝宝石衬底上使用反应射频磁控溅射法生长氮化铝薄膜60～120min，铝源为高纯铝靶材，工作气体为高纯氮气，溅射气压为0.3～0.5Pa，射频功率为225～250W，溅射温度为350～450℃，得到的氮化铝薄膜的厚度为300～600nm；

(3)将步骤(2)制备的氮化铝薄膜进行“面对面”热退火处理，退火温度为1500～1600℃，退火气氛为高纯氮气(纯度大于等于99.999％)，退火时间为60～120min；

(4)使用磁控溅射或电子束蒸发的方法在步骤(3)退火后的氮化铝薄膜上沉积金、铝、钛、银、钼、铬或镍等金属层，其厚度为100～400nm，，然后使用光刻工艺制备叉指电极，指宽与指间距均为5～100μm，从而制备得到氮化铝日盲光电探测器。

2.如权利要求1所述的一种氮化铝日盲光电探测器的制备方法，其特征在于：采用反应射频磁控溅射法制备氮化铝薄膜。

3.如权利要求1所述的一种氮化铝日盲光电探测器的制备方法，其特征在于：高纯氮气的纯度为99.999％以上。

4.如权利要求1所述的一种氮化铝日盲光电探测器的制备方法，其特征在于：高纯铝靶材的纯度为99.95％以上。

5.如权利要求1所述的一种氮化铝日盲光电探测器的制备方法，其特征在于：“面对面”热退火处理是将步骤(2)制备的氮化铝薄膜连同衬底切割为两半，将生长有氮化铝薄膜的一面“面对面”地贴合在一起并压紧，使氮化铝薄膜更紧密接触，然后进行退火。

6.一种氮化铝日盲光电探测器，其特征在于：是由权利要求1～5任何一项所述的方法制备得到。