[发明专利]一种低温轻质日用瓷及其制备方法

权利要求书

1.一种低温轻质日用瓷，其特征在于：包括坯体及由内向外依次涂覆在坯体上的化妆土层及釉层；

坯体由以下重量份的原料组成：钾长石15-22份、伊利石8-15份、蒙脱石5-10份、德化石英30-40份、膨润土5-10份、硼砂5-8份、叶腊石3-7份、透辉石3-5份、氧化钙2-3份、氧化钛0.5-1份；

化妆土的化学组成具体如下：SiO₂：72.62%、Al₂O₃：12.16%、ZnO：3.76%、CaO：5.96%、SrO：0.32%、ZrO₂：0.25%、La₂O₃：0.17%、MgO：4.76%；

所述釉层由以下重量份的原料组成：德化石英25-40份、德化高岭土12-18份、石灰石5-10份、镁质泥8-12份、氧化镁3-7份、蛭石粉5-7份、硼酸3-5份、方解石2-5份、氧化锶0.5-0.8份、氧化钡2-3份、氧化锆0.2-0.4份；

其制备方法，包括以下步骤：

步骤一，按坯体的原料组成分别称重、破碎、混合、湿球磨制得泥浆；

步骤二，按化妆土层的原料组成分别称重、破碎、混合、湿球磨得化妆土泥浆；

步骤三，按釉层的原料组成分别称重、破碎、混合、湿球磨制得釉浆；

步骤四，将步骤一制得的泥浆制成坯体，干燥至含水率低于10%时，在其表面涂覆步骤二制得的化妆土泥浆，并送入窑炉中在780-830℃下素烧5-6h，冷却后得素坯；

步骤五，在素坯上施步骤三制得的釉浆；

步骤六，待素坯表面的釉料干燥后送入窑炉中烧制成型，烧成控制如下：

低温阶段：窑炉由常温升至550-580℃，烧窑时间3-4h；

氧化阶段：窑炉内升温至800-850℃，保温烧制1-2h；

还原阶段：窑炉内继续升温至980-1020℃，保温烧制2-3h；

保温阶段：窑内转为氧化气氛，保温烧制1-2h；

冷却阶段：窑炉自然冷却至室温，冷却时间延长至12h以上。

2.根据权利要求1所述的一种低温轻质日用瓷，其特征在于：所述化妆土层的厚度为0.2-0.3mm，所述釉层的厚度为0.5-0.8mm。

3.根据权利要求1所述的一种低温轻质日用瓷，其特征在于：步骤一中，泥浆湿法球磨时，原料在球磨机中湿法研磨25-30小时，研磨介质为水，原料：球：水＝1:1.2-1.5:1-1.2。

4.根据权利要求1所述的一种低温轻质日用瓷，其特征在于：步骤二中，化妆土泥浆湿法球磨时，原料在球磨机中湿法研磨36-42小时，研磨介质为水，原料：球：水＝1:1.5-2:1.2-1.5。

5.根据权利要求1所述的一种低温轻质日用瓷，其特征在于：步骤三中，釉浆湿法球磨时，原料在球磨机中湿法研磨42-45小时，研磨介质为水，原料：球：水＝1:2-2.5:1.2-1.8。

6.根据权利要求1所述的一种低温轻质日用瓷，其特征在于：所述釉浆的施釉方式为淋釉或浸釉。